Occasion NIKON NSR S610C #293633336 à vendre en France

NIKON NSR S610C est un type avancé de pas de plaquettes, qui est adéquat pour la lithographie semi-conductrice haut de gamme. C'est un pas d'immersion avec une large gamme d'applications, capable de traiter plusieurs couches de structures litho sans compromettre les performances globales. Il est doté d'un mouvement de balayage lisse, d'un alignement précis et d'une imagerie de wafer de haute qualité. NSR S610C est équipé d'une gamme complète de fonctionnalités, permettant le décollage efficace et le montage de circuits. Cet étage utilise la conception en cinq axes, ce qui permet aux opérations de balayage de produire des images de haute fidélité même à fort grossissement. Les étages intérieur et extérieur de NIKON NSR S610C sont tous deux entraînés par un moteur d'entraînement direct, offrant des mouvements précis et rapides avec une précision de sous-ouverture. Quand il vient au fait de refléter, NSR S610C a pour résultat l'uniformité de gaufrette excellente et la fidélité. Ses mécanismes d'alignement optique embarqués permettent un positionnement précis et précis, indépendamment de la taille et de la complexité de la structure. Il est équipé de systèmes avancés de reconnaissance d'image, lui donnant la capacité d'évaluer avec précision les profils de résistance, ce qui lui permet de compenser les conditions difficiles de placement des arêtes. NIKON NSR S610C offre également plusieurs fonctions de sécurité, pour protéger l'utilisateur et la machine. Son système de verrouillage avancé surveille les défauts internes et externes, prévenant les dommages et les accidents. De plus, un système de nettoyage rapide réduit la contamination et permet l'utilisation rapide de la machine pour les plaquettes suivantes. NSR S610C est un pas de plaquette avancé conçu pour les procédés de lithographie haut de gamme. Avec sa conception en cinq axes, ses systèmes de reconnaissance d'image précis et ses systèmes de nettoyage efficaces, NIKON NSR S610C est une solution de lithographie efficace et fiable. Ses multiples caractéristiques de sécurité en font un choix sûr et fiable pour toute application de lithographie à semi-conducteurs.