Occasion NIKON NSR S610C #9207261 à vendre en France
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ID: 9207261
Style Vintage: 2007
ArF Immersion scanner
Resolution: ≦ 45 nm
NA: 1.30
ArF Excimer laser
Reduction ratio: 1:4
Maximum exposure range: 26mm x 33mm
Overlay accuracy: ≦ 6.5 nm
Throughput: ≧ 130 Wafers / hour (300mm) 76 shots
Main chamber
Loader chamber
SMIF Port
FOUP Port
Loader rack
Front rack
Rear rack
Sub temperature controller
Air conditioner
Amplifier rack
Power supply module
AFB
LFU
2007 vintage.
NIKON NSR S610C Stepper est un stepper wafer haut de gamme qui intègre une approche vraiment intégrée de la photolithographie. Ce stepper utilise un système d'imagerie rapide en deux étapes qui permet d'utiliser des temps d'exposition plus courts que les steppers classiques. NSR S610C Stepper utilise une lentille de projection haute performance de 4 pouces pour minimiser la distorsion et réduire les aberrations, assurant une sortie de haute qualité. Ce stepper offre également une fonction de dictage unique qui permet l'utilisation d'une variété de processus personnalisés. NIKON NSR S610C Stepper dispose d'un capteur d'alignement direct multi-champs qui fournit des informations spécifiques sur l'orientation et la position de la plaquette. Ce stepper offre également une large gamme d'options de mode de calcul de dose d'exposition qui permet aux utilisateurs d'ajuster facilement la qualité de sortie. NSR S610C Stepper utilise une conception mécatronique avancée qui permet un alignement rapide et précis, permettant aux utilisateurs de réduire le temps de cycle. NIKON NSR S610C Stepper dispose d'un module intégré d'asservissement de focalisation qui offre une excellente répétabilité, garantissant une profondeur de focalisation contrôlée avec précision sur l'ensemble de la plaquette. Pour minimiser l'introduction de particules, NSR S610C Stepper dispose d'un système avancé de contrôle de l'ozone et des particules. Cette étape offre des températures d'eau variées allant de 27 ° C à 45 ° C afin d'assurer des conditions optimales pour le traitement des plaquettes. NIKON NSR S610C Stepper offre également un contrôle de processus partie par partie (PBP) avec une large gamme de paramètres de travail qui peuvent être stockés pour chaque lot de plaquettes. NSR S610C Stepper intègre SU-8 extrêmement exact la résistivité codée du laser et la sensation lointaine pour permettre le contrôle plus facile sur le processus de masquage. Cette étape utilise une conception écologiquement durable avec un système d'échappement de plasma entièrement protégé, facilitant l'utilisation de matières dangereuses pendant le traitement des plaquettes. NIKON NSR S610C Stepper fournit des capacités de modularisation avec ses nombreux modules spécifiques à l'application et personnalisés. Cette étape permet aux utilisateurs de traiter plusieurs substrats avec une large gamme de matériaux et de tailles, leur permettant de remplir efficacement les exigences de production de plaquettes haut de gamme. NSR S610C Stepper est conçu pour une grande précision, vitesse et qualité, ce qui en fait un pas de plaquette de pointe pour les applications de photolithographie.
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