Occasion NIKON NSR SF100 #132126 à vendre en France

NIKON NSR SF100 est un pas de plaquette conçu spécifiquement pour la lithographie fine, sous-micron. Le stepper dispose de capacités d'alignement et d'optimisation avancées pour garantir les résultats lithographiques de la plus haute qualité. L'équipement de scène XY à double actionneur de NIKON NSR-SF100 permet une grande précision et une répétabilité du positionnement du motif sur la plaquette. L'étage comporte également un système optique d'alignement de matrice, équipé d'une résolution de mouvement de 1 µm et d'une précision d'alignement de ± 2 mm. En outre, le stepper dispose d'une unité de rétroaction automatique d'alignement, qui détecte et corrige avec précision les erreurs de placement des bords en temps réel, garantissant des résultats lithographiques de qualité supérieure. NIKON SF100 wafer stepper utilise une machine d'éclairage avancée, qui supporte une large gamme de conditions d'exposition et fournit une productivité élevée avec un excellent rapport Exposure--to-resolution (E : R). Le stepper est également équipé d'un outil de chargement et de déchargement des plaquettes sans contact à grande vitesse, permettant des cycles de chargement et de déchargement rapides et complets des plaquettes. Le NSR SF 100 offre une taille maximale de plaquette de 400 mm et un maximum de 36 champs d'exposition par plaquette. Il travaille avec SEL Design Expert et le logiciel SEL Framework, offrant un ensemble complet d'outils pour la correction des chevauchements régionaux et l'optimisation des processus. Grâce à l'amélioration des caractéristiques TIS (Total Imaging Asset), NIKON NSR-SF 100 wafer stepper offre les résultats lithographiques les plus élevés dans les procédés avancés de fabrication d'appareils. NSR-SF100 wafer stepper a beaucoup d'autres caractéristiques qui en font un choix idéal pour les processus de lithographie submicronique. Il intègre un modèle de contrôle de l'énergie à large gamme et des capacités précises de balayage de l'énergie à faible bruit. En outre, le stepper dispose de support de formats d'image, de paramètres d'équipement optique illimités, et de vitesse de fonctionnement élevée, supportant le débit le plus élevé sans sacrifier la précision. Dans l'ensemble, NIKON NSR SF 100 est une étape de lithographie avancée, offrant des performances supérieures et une fiabilité lithographique exceptionnelle pour les applications de recherche et de fabrication les plus exigeantes. Les caractéristiques avancées du stepper et sa grande précision en font le choix idéal pour les entreprises qui cherchent à obtenir des résultats supérieurs dans les processus de lithographie submicronique.