Occasion NIKON NSR SF120/130 #293794190 à vendre en France

NIKON NSR SF120/130 est un pas semi-conducteur de pointe conçu pour les procédés avancés de lithographie pour les techniques avancées de lithographie. Il est construit avec une chambre de lithographie, un étage linéaire, un étage de rotation et un étage de manipulation pour aligner et positionner avec précision les plaquettes et autres composants de photolithographie. Ce stepper dispose également d'un équipement d'alignement optique binoculaire très fiable qui permet une imagerie précise et haute résolution avec des distorsions et des désalignements minimes. NIKON stepper est décrit avec un design compact et peu encombrant qui offre des capacités d'analyse plus que suffisantes pour faciliter la fabrication des plaquettes, contribuant à augmenter l'efficacité et la vitesse de production. Avec un système de vide avancé, des paramètres d'exposition exacts et un environnement optimisé peuvent être atteints, améliorant grandement la qualité et la précision. En outre, le stepper offre une précision et une répétabilité exceptionnelles grâce à son unité d'alignement de détection de force précise et à sa technologie de contrôle avancée. Le pas de tranche est équipé de sources d'éclairage innovantes, telles qu'une couche de suppression, qui élimine les effets d'éclairage perturbateur des lampes halogènes. De plus, le stepper peut répondre à un large éventail d'exigences d'exposition pour répondre à différentes tailles et formes de plaquettes. Il peut rapidement et précisément aligner et positionner les plaquettes et autres matériaux photolithographiques pour obtenir des paramètres d'exposition précis, améliorer le rendement du processus et permettre un débit rapide. En résumé, NIKON NSR SF120/130 stepper est un outil puissant et fiable pour les procédés lithographiques avancés qui offre précision, répétabilité et flexibilité pour tous les types de besoins de fabrication de plaquettes. Sa conception peu encombrante, ses sources d'éclairage avancées et sa machine d'alignement précis offrent une excellente imagerie photolithographique qui accélère le traitement des plaquettes et produit des produits de meilleure qualité.