Occasion NIKON NSR SF120/130 #293794457 à vendre en France

NIKON NSR SF120/130
Fabricant
NIKON
Modèle
NSR SF120/130
ID: 293794457
i-Line stepper.
NIKON NSR SF120/130 wafer stepper est un équipement de lithographie haut de gamme conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs qui nécessitent une fixation précise sur des plaquettes de silicium. Ce pas de plaquette de pointe combine une technologie de pointe avec des caractéristiques innovantes pour obtenir des performances et une précision exceptionnelles dans la production de circuits intégrés et de dispositifs semi-conducteurs. NIKON NSR SF120/130 wafer stepper est équipé d'un système d'objectif de projection de pointe qui fournit une haute résolution et une excellente qualité d'image pour les motifs de fixation sur les plaquettes. L'unité utilise des éléments optiques avancés, tels que des lentilles asphériques et des revêtements multicouches, pour minimiser les aberrations et les distorsions, en veillant à ce que l'image projetée soit nette et bien définie. Cette machine optique de haute qualité permet de produire des caractéristiques fines et des motifs complexes avec une résolution sous-micron, répondant aux exigences strictes de l'industrie des semi-conducteurs. NIKON NSR SF120/130 dispose d'un outil sophistiqué d'alignement et d'exposition qui permet de superposer et d'enregistrer avec précision plusieurs couches sur une plaquette. L'actif utilise des capteurs d'alignement avancés, tels que des capteurs de détection de phase et des interféromètres, pour assurer un alignement précis de la plaquette avec le masque et un positionnement précis du faisceau d'exposition. Cette capacité d'alignement de haute précision est essentielle pour atteindre des tolérances de recouvrement serrées et garantir que les différentes couches du dispositif semi-conducteur sont bien alignées les unes avec les autres. NIKON NSR SF120/130 wafer stepper est équipé d'une source lumineuse de haute intensité, telle qu'un laser ultraviolet profond (DUV) ou un laser excimère, qui génère le faisceau d'exposition utilisé pour modeler la résine photosensible sur la plaquette. Le modèle utilise des techniques d'éclairage avancées, telles que l'ouverture numérique variable (NA) et l'éclairage hors axe, pour optimiser la dose d'exposition et améliorer le contraste et la résolution de l'image projetée. Ce contrôle dynamique de l'éclairage permet la réalisation de caractéristiques fines avec une grande fidélité et uniformité sur toute la surface de la plaquette. L'étage de plaquettes NIKON NSR SF120/130 est doté d'un étage de plaquettes haute vitesse et d'un équipement robuste de manutention de plaquettes qui permet une production rapide et efficace de dispositifs semi-conducteurs. Le système est conçu pour accueillir différentes tailles de plaquettes, allant des petites plaquettes de 100mm aux grandes plaquettes de 300mm, et peut traiter plusieurs plaquettes en un seul lot pour maximiser la productivité. L'étage de la plaquette est équipé de technologies avancées de contrôle de mouvement, tels que les moteurs linéaires et les paliers à air, pour obtenir des accélérations et des vitesses élevées tout en maintenant un positionnement et une stabilité précis pendant l'exposition. NIKON NSR SF120/130 wafer stepper est supporté par une suite logicielle complète qui comprend des algorithmes avancés de contrôle des processus, des outils de simulation, et des utilitaires de diagnostic pour optimiser la performance et la fiabilité de l'unité. Le logiciel permet de surveiller en temps réel les paramètres clés du processus, tels que la dose d'exposition, la concentration et l'alignement, et fournit des outils pour ajuster les paramètres de la machine afin d'améliorer les résultats de l'analyse. De plus, le logiciel permet de configurer et de programmer rapidement des recettes d'exposition, facilitant ainsi le déploiement rapide de nouveaux processus et conceptions sur l'étage du wafer. En conclusion, NIKON NSR SF120/130 wafer stepper est un outil de lithographie de pointe qui offre des performances et une flexibilité inégalées pour la production de dispositifs semi-conducteurs avancés. Avec sa technologie de pointe, sa haute précision et ses caractéristiques avancées, ce pas de plaquette est un outil indispensable pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à atteindre le plus haut niveau de qualité et de productivité dans leurs processus de production.
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