Occasion NIKON NSR SF120 #293628325 à vendre en France

NIKON NSR SF120 wafer stepper est une machine de lithographie de haute précision conçue pour la production de photomasques. Ce pas de tranche utilise une optique de projection multichip et un alignement entièrement automatique, ainsi qu'une variété d'autres composants, pour offrir une production de photomasques avec une précision et une stabilité sans précédent. NIKON NSR-SF120 atteint un haut niveau de qualité d'image au sein d'une empreinte compacte, ce qui le rend hautement adapté aux processus de fond tels que l'alignement des contacts, via l'alignement, et le tracé ligne/espace. Le NSR SF 120 utilise un équipement d'alignement à 4 champs à colonne unique extrêmement précis combiné à un miroir Galvo ouvert. Ceci fournit un alignement extrêmement précis et une plus grande précision de cadrage que d'autres systèmes de production de photomasques disponibles, tout en étant plus configurable et plus facile à utiliser. Le NSR SF120 est également doté d'un étage de wafer sec, ce qui lui permet de s'affranchir de la nécessité d'un environnement de production à l'état humide. L'optique de projection de haute précision intégrée dans NIKON NSR SF 120 fournit une précision d'imagerie et de lithographie de 2,0-3,0 microns. Avec le champ de vision plus large que le système offre, cela rend NSR-SF120 idéal pour la production de photomasques et de motifs semi-conducteurs avancés avec des formes et des géométries difficiles. L'appareil possède également une vitesse de balayage incroyable allant jusqu'à 1m/s, ce qui le rend adapté à une production à haut volume. NIKON NSR SF120 possède également une unité autofocus intégrée, offrant une excellente profondeur de focalisation (DOF). Cela permet à la machine d'ajuster automatiquement le réglage de la mise au point pendant le balayage des plaquettes, assurant la meilleure qualité d'image possible dans tous les cas. En outre, NIKON NSR-SF120 dispose d'une fonction rapide d'alignement automatique des lots avec la possibilité de placer les motifs cibles avec précision et rapidité sur les coordonnées souhaitées tout en éliminant les erreurs d'arrondi. Le NSR SF 120 dispose d'un outil d'échange rapide de plaquettes robotiques (REX) qui permet d'échanger automatiquement des plaquettes et des plaques d'exfoliation, ce qui permet d'augmenter le débit et de réduire les coûts de main-d'oeuvre. Il comprend également un outil d'inspection et d'étalonnage avancé qui facilite plus que jamais la cartographie précise et la répétabilité des modèles de cibles. En outre, son logiciel de pointe comprend un simulateur de logiciel tridimensionnel précis qui fournit une lithographie virtuelle et un alignement de contour d'une manière fiable et efficace. Au total, NSR SF120 est un pas de plaquette très précis, polyvalent et fiable idéal pour la production de photomasques de haute précision. Grâce à son optique de pointe, à son alignement automatique des processus et des lots, à son échange rapide des plaquettes et à ses systèmes d'inspection et d'étage précis des plaquettes, NIKON NSR SF 120 offre le plus haut niveau de qualité d'image, de débit et de stabilité actuellement disponible.