Occasion NIKON NSR SF120 #9227511 à vendre en France

NIKON NSR SF120 est un pas de plaquette haute performance conçu pour les procédés de lithographie avancés. Il combine les avantages d'un équipement de lentille à grande ouverture avec la haute résolution de photoélément d'un pas plein champ. Cette combinaison permet à NIKON NSR-SF120 de fournir une imagerie de haute précision et un débit maximum de plaquettes, tout en conservant une excellente reproductibilité même au niveau du nanomètre. Le système est équipé d'une unité de contrôle avancée qui comprend une puissante optimisation de la puissance de balayage pour minimiser les variations de processus. Son alignement optique contrôlé par le logiciel permet un positionnement précis du motif sur la surface de la plaquette, ce qui réduit les erreurs de transfert de motif. Avec une précision d'alignement supérieure, la taille des caractéristiques et la stabilité du recouvrement peuvent être maintenues à des niveaux de sous-microns. NSR SF 120 utilise une machine d'imagerie plein champ qui permet un débit d'image plus élevé par rapport à l'outil en une seule étape. Il utilise l'optique haute résolution avec une ouverture de 0.75X, et une taille de champ de 10.8mm, ce qui permet des motifs jusqu'à 7nm de dimension critique (CD). En outre, l'actif peut accueillir des masques allant de 5 « à 16 ». Le modèle offre une excellente performance en termes de répétabilité et de stabilité d'exposition, grâce à son équipement de contrôle avancé. Il offre également une excellente précision de mise en scène qui permet des rendements de production plus élevés et maximise le rendement. Les caractéristiques de NSR SF120 comprennent une interface intuitive de console GUI pour le fonctionnement manuel ou à distance, un système intégré de numérisation et de mesure de forme, une interface haute vitesse pour le transfert d'image rapide, une fonction d'auto-centrage pour une uniformité k1 améliorée, et une unité de mémoire pour réduire les frais généraux de données. Pour assurer une lithographie de haute qualité, la machine est conçue avec un outil à double habillage pour le contrôle direct de l'illuminateur. Cet actif peut fournir une exposition fractionnée en utilisant l'éclairage de la zone centrale avec un motif de balayage fixe et un décalage de motif variable. NIKON SF120 offre une solution haute performance pour les procédés de lithographie avancés où la précision de l'imagerie et la précision des motifs sont critiques. Son modèle optique supérieur, combiné à son excellent équipement de contrôle et au transfert rapide de données, permet un meilleur débit, rendement et répétabilité. Son optique haute résolution et son excellente précision de formation de motifs fournissent les outils nécessaires pour des applications de lithographie réussies.