Occasion NIKON NSR SF120 #9247819 à vendre en France

NIKON NSR SF120 est un équipement d'ultra-haute précision pour la fabrication de circuits intégrés. Il est conçu pour fabriquer des éléments de circuit avec une précision de 1,2 micron (à 100 KeV). Le système adopte un schéma d'éclairage télécentrique qui est commun à la famille NIKON des systèmes de lithographie, et fournit la projection de motifs de demi-fente sur toute la surface des plaquettes polies. NIKON NSR-SF120 est conçu pour permettre le traitement à haut débit de plaquettes avec une seule machine d'exposition, avec un débit de 250 plaquettes par heure. L'outil se compose d'un atout de mouvement haute performance avec des champs optiques linéaires, une lentille d'imagerie haute précision, une source lumineuse efficace, et un contrôleur de modèle. L'étage de plaquettes est conçu pour fournir un mouvement précis et répétable de plaquettes polies, ce qui est essentiel pour atteindre un débit élevé. L'étage de plaquette comporte des moteurs linéaires sans frottement qui sont capables de positionner avec précision la plaquette dans les deux axes X et Y. La lentille d'imagerie de l'équipement NSR SF 120 est optimisée pour des éléments d'imagerie inférieurs à 1,2 micron. Les composantes clés du système d'imagerie sont des miroirs paraboliques hors axe et asymétriques qui minimisent les aberrations dans l'unité d'imagerie. La source lumineuse est un laser excimère KrF d'une longueur d'onde de 248nm, qui offre des performances supérieures pour l'imagerie de petites structures sur des plaquettes polies. Le contrôleur de machine assure un contrôle précis de l'optique d'imagerie ainsi que de l'outil de mouvement de la plaquette. L'actif NSR SF120 peut être configuré avec des options supplémentaires qui améliorent encore ses performances. Il s'agit notamment d'optiques à haute résolution pour l'imagerie de structures extrêmement petites, et d'étages de plaquettes spécialisés pour le traitement de grandes tailles de plaquettes. Le modèle offre également un équipement de nettoyage réglable qui augmente encore sa précision et améliore le temps de traitement. En résumé, NIKON NSR SF 120 wafer stepper system est conçu pour la fabrication de circuits intégrés de haute précision. Il dispose d'une optique avancée et de systèmes de mouvement de plaquettes, ainsi que d'un laser excimère KrF qui fournit la source de lumière nécessaire. En outre, les clients peuvent configurer leurs systèmes avec des options supplémentaires pour améliorer encore les performances.