Occasion NIKON NSR SF120 #9310946 à vendre en France
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ID: 9310946
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2003
i-Line stepper, 12"
SMIF Type: OHT
WL In-line (FOUP: Front In-line)
Signal tower: (3) Colors
Right and left chamber
Temperature controller
Lamp cooling unit
Back side frame
(2) Lamp houses / Loader rails
Top chamber
Control panel
(3) Boxes
Automation online component: SECE
Aperture INA: 0.45
Focus system: Multi focus
Leveling system: Table
Main body:
Magnification: 1/4 Reduction
Light source: 365 nm
Resolution: 0.28 µm
Variable lens: 0.50 to 0.62 nA
Exposure filed size: 25 x 33 mm
Lens adjustment:
(5) PIEZO: 3 Axis
Lens cloudiness: Lemon skin filter
PC System hardware:
Type: DS10
Y2K Completion
No UPS system
Reticle size, 6"
Variable reticle microscope
Alignment sensor:
LSA
FIA
AIS
No LIA
Illumination interferometer system:
Mercury ARC lamp: 5 kW
Wafer stage
Reticle stage
Wafer loader, 12"
Type 3
Port number: 1
Notch type
Hold type: Ping type
Cassette
Front in-line (EFEM)
Pre-align type: NC PRE2
No edge exposure
Reticle loader:
SMIF Type (OHT)
Library / Slot: (2) Indexes
Barder reader
Particle checker: PPD2
Library: Center
Control rack:
Type: Right
Cable length: Normal
s52 Chamber:
Type: Sendai chamber
Single
BATC / CATC / LLTC: 23°
Power supply: 208 V, 60 Hz, 3 Phase
Missing parts:
(4) ALG-AF Control PCB
FIA-AF Control PCB
2003 vintage.
NIKON NSR SF120 est un pas de plaquette conçu pour la fabrication avancée de photomasques de petits appareils à haute résolution. Il est utilisé pour la nano-imagerie et est capable de créer des photomasques de haute qualité avec moins de résistance, niveau de défaut, et haut débit. NIKON NSR-SF120 dispose d'un équipement d'optique pas à pas (SOS) avec une taille de champ de masque de 4 "(100mm) pour l'imagerie haute résolution qui convient pour les masques monocouches à 5 couches. L'optique comprend également un alignement à 6 axes avec une précision de 0,1 um et une résolution de 0,02 um pour l'imagerie nano-échelle. De plus, le pas de plaquette dispose d'un système d'alignement qui utilise une caméra CCD de 1,4 mégapixel de résolution pour la détection automatisée du mouvement de la plaquette, ainsi qu'une unité de détection des vibrations 3 axes qui peut détecter les vibrations de bas niveau de l'environnement pour une stabilité optique supplémentaire. Le pas de plaquette comprend également une machine de contrôle de processus complet (CPCS) qui utilise un algorithme de calcul de pointe pour l'optimisation de haut débit. Le CPCS permet aux utilisateurs de surveiller et d'ajuster le processus d'exposition en temps réel pour une fabrication optimale du masque. De plus, le NSR SF 120 comprend un sous-outil AVI (AutoVision Interface) pour une modélisation fiable et efficace des motifs photomasques. L'AVI offre une précision de transfert et une automatisation améliorées grâce à des techniques avancées de topographie optique et de mesure géométrique. Le pas de plaquette offre également une interface de manipulation de plaquette contrôlée par PC étendue qui permet aux utilisateurs de configurer, vérifier ou ajuster rapidement la position de la plaquette. En termes de fiabilité, le NIKON NSR SF 120 est conçu pour être très résilient et durable avec ses atouts de refroidissement avancés et ses caractéristiques de protection mécanique et environnementale robustes. Le pas de plaquette permet également aux utilisateurs de commuter facilement entre différents substrats en raison de son alignement et de sa fonction d'échange automatisés. Le stepper a un temps de chargement rapide de plaquettes de 60 secondes et un temps de traitement de 90 secondes pour une taille de champ de masque de 4 "(100mm). Enfin, NSR-SF120 est livré avec des fonctionnalités de maintenance conviviales et des boutons d'action personnalisables pour une performance optimale.
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