Occasion NIKON NSR SF130 #293603896 à vendre en France

NIKON NSR SF130 est un pas de plaquette ultraviolet profond (DUV) avec une lentille haute résolution et un niveau d'éclairage réglable, idéal pour les procédés et applications lithographiques avancées. L'équipement est capable d'atteindre des résolutions extrêmement élevées, jusqu'à 13nm de taille. Ce niveau de résolution est souvent nécessaire pour la lithographie avancée des noeuds de processeur, ainsi que pour d'autres applications avancées dans l'industrie des semi-conducteurs. NIKON NSR-SF130 stepper dispose d'un certain nombre de fonctionnalités conçues pour améliorer les performances. Il est équipé de NIKON Enhanced OSA, qui permet de détecter automatiquement les caractéristiques de la surface de la plaquette pour optimiser les paramètres d'exposition. Le système dispose également d'une fenêtre en arc qui compense les erreurs de position qui peuvent se produire pendant le mouvement de la plaquette lors de l'exposition. De plus, NSR SF 130 dispose d'un module de balayage optique à quatre ports pour faciliter les capacités de balayage multifaisceaux. En termes de résolution, NSR-SF130 est capable de produire des images de 13 nm grâce à son unité optique biphasée avancée à quatre étages. Il peut également générer des champs d'exposition jusqu'à 300 x 400 mm de surface, et à une vitesse allant jusqu'à 480 wafers par heure. En conséquence, la machine est livrée avec une variété d'options pour répondre à une variété d'applications lithographiques difficiles. Le NSR SF130 est également hautement configurable, avec un large choix de longueurs d'onde d'exposition, de niveaux d'éclairage, de champs d'exposition et de systèmes programmables de transfert de plaquettes. Il utilise un outil d'imagerie CCD haute résolution qui peut fournir une rétroaction d'exposition rapidement, permettant à l'actif d'effectuer les ajustements nécessaires en temps réel. Enfin, le modèle NIKON NSR SF 130 est conçu pour être extrêmement convivial, avec des graphismes simples et des opérations faciles à utiliser. L'interface intuitive peut être utilisée pour saisir des données, ajuster les paramètres d'exposition et examiner les résultats d'exposition. L'équipement est également livré avec un certain nombre de fonctionnalités logicielles avancées, telles que la surveillance de l'exposition, l'examen des défauts, et la cartographie des processus. Toutes ces fonctionnalités sont conçues pour rationaliser le processus de lithographie et faciliter le maintien de l'efficacité et de la précision des opérateurs.