Occasion NIKON NSR SF130 #9207085 à vendre en France

Fabricant
NIKON
Modèle
NSR SF130
ID: 9207085
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2004
i-Line stepper, 12" Reticle, 6" Wavelength: 365 nm Surface illumination (Standard): 1000 [mW/c m]/more Reduction ratio: 1 : 4 Throughput: FIA-EGA: 120 Wafer/hour or more LSA-EGA: 96 Wafer/hour or more Step pitch: 25 nm x 33 mm 76 Shots (Wafers, 12") Exposure amount: 90 mJ/c m² Resolution: 280 nm / Less Alignment accuracy: 35 nm / Less (M+ 3σ) Lighting NA: I-NA: 0.43 CONV I-NA: 0.36 CONV I-NA: 0.50 2/3Ann Projection lens NA: Variable 0.50~0.62 VRA Angle / Exposure range (Scan field): 26 x 33 mm, 25 x 33 mm Wafer alignment: FIA/LSA LC Control: Adjust only 25 x 33 mm 2004 vintage.
NIKON NSR SF130 est un pas de plaquette haute performance et haute précision qui est utilisé pour la fabrication de dispositifs avancés et haute densité sur des plaquettes semi-conductrices. Il utilise un équipement de balayage d'images et d'alignement de motifs à haute résolution et à grand champ, ainsi qu'un mécanisme avancé de contrôle par étapes et un système unique de contrôle de l'exposition qui assure une exposition uniforme et précise. NIKON NSR-SF130 est construit sur une plate-forme de conception modulaire pour une flexibilité optimale dans les capacités de manutention des plaquettes et des tailles de champ étendues. Il est équipé d'un étage de balayage lithographique capable de balayage à très grande vitesse, avec une précision de détection de 0,0025mm et une taille de champ de 5 « à 12 » (paire-ligne) pour la production de grandes filières. Le stepper dispose d'une unité de transfert d'image avancée (ITS) pour garantir une qualité d'image optimale, avec une machine de caméra de 5m pixel et un diamètre de l'alésage de l'obturateur jusqu'à 65mm pour une précision avancée de l'alignement des plaquettes. L'outil de contrôle fonctionne comme une seule unité avec les composants d'éclairage et d'autofocus pour l'imagerie avancée. Le NSR SF 130 utilise son atout unique de contrôle de l'exposition avec une source lumineuse à longue réflexion pour assurer une exposition uniforme et de haute précision. Il a une excellente planéité de champ, ainsi que des instructions avancées de dictage et de lithographie qui permettent la reconnaissance et l'optimisation des motifs de lithographie avancée. Le stepper dispose d'une lentille cylindrique qui utilise un modèle de rapport d'aspect variable et l'alignement dans l'axe Y pour une grande uniformité d'exposition. Son équipement avancé de contrôle d'étage comporte un centrage sur le terrain pour un alignement précis des plaquettes, ainsi qu'un alignement rotatif amélioré pour une exposition uniforme. NIKON NSR SF 130 est alimenté par une plate-forme informatique avancée, avec un système d'exploitation et un logiciel très robustes, qui assurent des performances élevées et une maintenance faible. Le logiciel comprend les meilleurs utilitaires d'alignement en classe et les capacités de reconnaissance de motifs. De plus, l'unité de contrôle de l'exposition assure une efficacité optimale, permettant une exposition jusqu'à 0,12 cm/espace avec précision. Il dispose également de nouvelles technologies de contrôle de l'exposition, y compris l'intégration optimisée des étages, la précision du champ plat, l'amélioration de la qualité de l'image et la taille du champ large. NSR SF130 est certifié SEMI SECS-II et est conforme à SEMI PV2-0375. C'est un pas de plaquette efficace et fiable pour le traitement lithographique avancé.
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