Occasion NIKON NSR SF130 #9311380 à vendre en France

NIKON NSR SF130 Wafer Stepper est un équipement de lithographie avancé conçu pour soutenir la production de semi-conducteurs. Ce système fournit une unité d'imagerie optique avancée utilisant le mouvement d'étage de précision pour créer des caractéristiques de haute résolution sur la plaquette semi-conductrice. NIKON NSR-SF130 est une machine de lithographie de 6 pouces conçue avec un outil d'imagerie avancé avec une lentille de projection de réduction avec un NA de 0,25 et des lentilles d'ouverture haute de 0,6. L'actif utilise un module d'étage dynamique pour supporter un mouvement de grand étage allant jusqu'à 1mm. Cela permet au modèle de maintenir une focalisation tout au long de la gamme de mouvement étendue. Les détections de plan d'image, de fente et de focalisation sont activées par un interféromètre laser de haute précision intégré pour un positionnement et une lithographie efficaces des plaquettes. L'équipement offre un chargeur pelliculé standard et un système de masquage pour garantir une précision spécifique à la tâche lors de la manipulation et de l'éclatement des masques. Le NSR SF 130 est alimenté par une unité de commande avancée dotée d'une unité informatique NC intuitive avec intelligence avancée et applications NC intégrées. La machine comprend des fonctions d'auto-alignement et d'autofocus qui permettent un marquage précis et un enregistrement précis. De plus, l'outil prend en charge la correction de cadre automatique pour un meilleur positionnement du masque. L'actif supporte de multiples techniques d'exposition, dont 0,5-8um, UV profond, rayons X profonds, visible, et diverses techniques avancées. La gamme de résolution est de 0,1um ou mieux et la taille maximale de la plaquette de 6 pouces permet une production rapide. De plus, le modèle permet de faire correspondre les processus à l'avance afin d'assurer une lithographie cohérente à chaque étape. NSR-SF130 Wafer Stepper fournit une base fiable et efficace pour la production de semi-conducteurs. Son équipement d'imagerie avancé et son contrôle précis offrent aux utilisateurs une lithographie haute résolution avec une précision et une vitesse supérieures. Ses multiples techniques d'exposition et le support de diverses techniques de lithographie avancées en font un choix idéal pour les installations de production de semi-conducteurs de volume moyen à élevé.