Occasion NIKON NSR SF200 #293769352 à vendre en France

NIKON NSR SF200 Wafer Stepper est un outil de photolithographie automatisé de haute précision conçu pour l'alignement des masques et l'exposition des plaquettes. Il offre une excellente précision d'alignement de plaquette à masquer ou de plaquette à plaquette, avec un minimum de 0,3 microns (0,000012 ") lors de l'utilisation de systèmes d'alignement automatique. La machine est capable d'accueillir deux systèmes d'exposition et d'alignement distincts et totalement indépendants et permet une large gamme de substrats pas à pas, de photomasques et d'autres outils de traitement. Le stepper peut être utilisé dans plusieurs modes d'imagerie, permettant une vraie résolution à 6 axes (X, Y, thêta, focus, shift et rotation). Il a des étages XY standard qui sont entraînés par des servomoteurs de haute précision, chacun avec une résolution de 15 nm. L'axe thêta utilise un équipement d'entraînement direct de nouvelle génération, permettant des pas de 0,001 degré. Combiné à la répétabilité et à la précision du système d'alignement optique, ce Stepper est capable d'obtenir une précision maximale de recouvrement tout en conservant une précision de position tout au long du processus. L'unité optique flexible (FLOS) de NIKON NSR SF 200 est la caractéristique clé de la machine. Il est conçu pour s'assurer que l'alignement de la plaquette sur le masque reste constant pour une exposition complète en deux étapes. Il est également capable d'optimiser automatiquement les paramètres de mise au point et d'exposition pour chaque masque individuel. Le collimateur réglable permet une gamme de niveaux d'exposition et d'autres caractéristiques telles que le décalage de coin, la fente et l'exposition sous-terrain. En outre, NSR SF200 a sa propre suite logicielle complète, offrant plusieurs options différentes pour les opérations d'alignement et d'exposition. Le logiciel permet de contrôler les sous-champs au niveau de la plaquette, de configurer la séquence d'exposition et de scanner automatique au niveau de la plaquette. Il permet également le contrôle en ligne de RLS (Realtime Lens Machine), ce qui rend cet échelon particulièrement bien adapté aux opérations à haut débit. Dans l'ensemble, NSR SF 200 est un outil pas à pas très précis et polyvalent qui fournit un processus d'imagerie fiable et à haute résolution avec sa focalisation extraordinaire et sa précision d'alignement. Son design sophistiqué et son ensemble de fonctionnalités le rendent adapté aux tâches avancées de photolithographie et en font un excellent rapport qualité-prix.