Occasion NIKON NSR TFH 2 #9206223 à vendre en France

NIKON NSR TFH 2 est un pas de tranche conçu pour effectuer des tâches de lithographie dans la production de semi-conducteurs. Il utilise un équipement de photolithographie pas-à-pas qui est capable de fournir une fabrication de haute précision avec des progrès inthroughput et la fiabilité. Sa conception compacte permet une faible empreinte avec un système de voie automatisé qui permet le transport et le déplacement des étages de plaquettes. Le TFH 2 est capable de traiter des substrats jusqu'à 200mm de taille et dispose d'une unité optique à ouverture numérique variable « NA ». Cela lui permet de fournir une résolution d'imagerie supérieure adaptée à la fabrication de micro et nanométriques. Il comprend l'utilisation d'une machine à lentilles liquides à immersion à haute performance NA, des sources de lumière laser ultraviolette ultra-haute puissance, et un mouvement optique à haute vitesse pour le balayage, le pannage et la couture semi-champ pour améliorer le débit. Le TFH 2 est équipé d'un outil d'imagerie de fusion et de systèmes d'alignement sophistiqués pour fournir un emplacement de motif très précis. Il comprend également des fonctions telles que l'exposition multiple et le chevauchement de balayage pour éviter les problèmes de couture et le réglage répétable du plan focal d'un substrat à l'autre. Le stepper a un haut degré de résolution de motif qui est bien adapté aux dispositifs de mémoire, dispositifs d'affichage, analogique haute performance, et des applications numériques. De plus, le TFH 2 est conçu pour un faible entretien amélioré, nécessitant un réglage manuel minimal et une facilité de réglage. Il dispose également d'une inspection automatique pour s'assurer que tous les composants sont correctement alignés et calibrés, ainsi que des réglages personnalisables pour une productivité et une efficacité accrues. Les interfaces conviviales de maintenance et d'échange de données permettent l'observation et le contrôle en temps réel des composants des actifs. Ces caractéristiques travaillent ensemble pour fournir des performances de processus de wafer leader dans l'industrie.