Occasion NIKON NSR TFH i12 #9197998 à vendre en France
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Vendu
ID: 9197998
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 1998
Photolithography stepper, 6"
SEIKOSHA BP-4500 Computer controller
VIEWSONIC Flat screen monitor
Keyboard
Mouse
Control cabinet
Wafer loader: Type 2 left inline
Reticle loader: (13) Slots single library
Inline: Left type
Wafer loader:
WL-12 v2.30 13V4.50
OF-12 v2.30 B4V3.20
WR-12 v2.50
WLY-11 v1.30 10V2.11
Lens controller: 71V6.80
Main computer: NIKON NEST V
VAX Station: 4000.96
Tape driver: DAT40
Chamber type: SENDAI S19
Chamber temperature: 20.0
IATC Temperature: 20.1
LLTC Temperature: 20.32
Compressed air (at 50 liter/min flow): 3.1kg/cm2
Vacuum pressure (at 50 liter/min flow): -600mmhg
Process cooling water flow rate (at 20°C): 35 liter/min
LLTC Coolant flow rate:
Atmospheric pressure: 835.78 Hpa
Refrigerator pressure:
Set point:
High: 1.3~1.5 (actual 1.4)
Low: 0.35~0.55 (actual reading 0.38
1998 vintage.
NIKON NSR TFH i12 est un pas de plaquette de pointe développé par NIKON pour guider la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le pas de plaquette est conçu pour des applications de lithographie de haute précision et de haute productivité dans l'industrie des semi-conducteurs. Sa combinaison de haute résolution, de haut débit et de compatibilité avec des cibles de lithographie à haut rapport d'aspect le rend idéal pour une variété de processus de fabrication d'appareils. NIKON NSR-TFHI12 a deux modes de fonctionnement : Scanning et Step and Repeat. En mode Balayage, un réticule contenant un motif est balayé à son tour sur la surface d'une plaquette. Le motif est exposé sur la plaquette à chaque passage du scanner. En mode Étape et Répétition, une seule image est imagée sur de nombreuses parties de la plaquette. La plaquette est ensuite déplacée entre les expositions de sorte que les expositions successives sont toutes liées par un grossissement et un déplacement de base à base prédéterminés. Afin de maximiser les performances, NSR TFH i12 est équipé d'une variété de fonctionnalités avancées. Une caractéristique clé est un système d'autolocalisation de la plaquette qui est conçu pour réduire le désalignement et le mauvais comportement de la plaquette. Le stepper dispose également d'une variété d'options d'alignement, y compris une haute précision, une recherche par étapes de haute précision, un balayage en ligne ou un positionnement en vol des réticules pour assurer la précision et le débit de l'encoche supérieure. En outre, il offre également un auto-focus et une correction d'astigmatisme pour obtenir la meilleure concentration et uniformité d'image. L'environnement intégré NSR-TFHI12 permet un contrôle rapide et précis des processus sur chaque plaquette, fonction par fonction. Il est capable d'une variété de techniques d'exposition telles que l'optimisation de la concentration, l'examen avancé des défauts, et la technologie des recettes axées sur les recettes. Le stepper comprend également un microscope numérique pour permettre aux opérateurs d'inspecter le motif de chaque réticule avec un grossissement et une résolution élevés. Enfin, NIKON NSR TFH i12 est conçu pour la production en temps réel et répond au défi d'être rentable, mais très efficace. Il peut également être facilement intégré dans un environnement de production existant, en économisant du temps et en permettant une production transparente. Dans l'ensemble, NIKON NSR-TFHI12 est un excellent choix pour une solution pas à pas de plaquettes rentable.
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