Occasion NIKON NSR-TFH i14 DL #9023488 à vendre en France
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Vendu
ID: 9023488
i-Line stepper, 6"
Body: i14
Wafer thickness: 1.2mm
Wafer type: Notch
Loader type: 3
Controller: VAX
GEM: Yes
Numerical aperture: 0.3-0.45
Lens data:
Distortion spec +/- 40nm
TFD spec 0.5um
AST spec 0.4um
Curvature spec 0.4um
-Pre data collection before lens optimization.
-Distortion ID1
Max vector X= 65nm, Y=51nm
Min vector X= -87nm, Y= -60nm
Reduction= 0.823
- INC ID1
TFD = 0.726
AST= 0.359
Curvature= -0.251
-Distortion ID9 (map is similar to ID1)
Max vector X= 67nm, Y=65nm
Min vector X= -69nm, Y= -57nm
Reduction= -0.742
Post data after lens optimization:
-INC ID1
TFD = 0.403
AST= 0.240
Curvature= 0.028
-Distortion ID1
Max vector X= 0.024nm, Y= 0.025nm
Min vector X= -0.043nm, Y= -0.042nm
Reduction= -0.323
-Distortion ID9
Max vector X= 43nm, Y= 32nm
Min vector X= -37nm, Y= -34nm
Reduction= 0.270
Main body is not crated
FC77 oil is in the chem support
Accessories included
Deinstalled by OEM
No lens data were collected prior to deinstall
Currently crated.
NIKON NSR-TFH i14 DL est un pas de tranche qui est conçu pour effectuer des processus de lithographie pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est conçu pour fournir des procédés de lithographie de haute précision avec une précision et une précision de pointe dans l'industrie. NIKON NSR TFH I14DL est équipé de plusieurs fonctionnalités avancées qui aident à fournir des résultats lithographiques supérieurs. Sa conception comprend un étage réticulaire avancé avec un balayage par paliers 4 axes et des capacités d'auto-nivellement, permettant un fonctionnement rapide et fiable. Il comprend également une lentille d'aplatissement du champ d'imagerie de haute qualité pour améliorer l'uniformité de la lumière dans le champ d'imagerie. Le système d'alignement arrière intégré assure un alignement précis des plaquettes et une précision de recouvrement. NSR-TFH i14 DL peut exposer des images allant jusqu'à 4 micromètres avec d'excellentes capacités de résolution. Les résultats sont très précis avec une excellente profondeur de focalisation. L'optique avancée et le système d'éclairage rendent ce pas de plaquette efficace pour aligner même les plus petites structures sur des substrats complexes. Sa capacité exclusive Deep Ultraviolet (DUV) lui permet d'exposer des images même avec les caractéristiques les plus difficiles, donnant une image nette avec un contraste supérieur. La construction robuste de NSR TFH I14DL permet une durée de vie prolongée sans dégradation des performances sous-jacentes ou périphériques. Construit avec son propre langage de modélisation RPC et son interface logicielle complexe, le wafer stepper offre une grande flexibilité et peut être personnalisé en fonction des différentes exigences de traitement. Le NIKON NSR-TFH i14 DL permet de réduire les temps de cycle et de respecter des délais serrés même avec des processus de lithographie complexes. Offrant un profil de faisceau et une puissance de faisceau justes et précis, il permet une uniformité de processus supérieure avec un temps de traitement des plaquettes court. Ses remarquables fonctionnalités matérielles et logicielles contribuent à réduire le coût de possession tout en permettant l'utilisation de substrats de haute qualité. Globalement, NIKON NSR TFH I14DL est un pas de plaquette puissant et fiable conçu pour la fabrication d'appareils. Son optique avancée, son étage réticulaire et ses systèmes d'éclairage permettent d'excellents visuels et des résultats lithographiques de haute qualité. Construit avec son propre langage de modélisation RPC et son interface logicielle complexe, le pas de plaquette est facile à configurer et à personnaliser pour répondre aux exigences spécifiques de l'application.
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