Occasion NIKON NSR-TFH i14 DL #9023488 à vendre en France

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Fabricant
NIKON
Modèle
NSR-TFH i14 DL
ID: 9023488
i-Line stepper, 6" Body: i14 Wafer thickness: 1.2mm Wafer type: Notch Loader type: 3 Controller: VAX GEM: Yes Numerical aperture: 0.3-0.45 Lens data: Distortion spec +/- 40nm TFD spec 0.5um AST spec 0.4um Curvature spec 0.4um -Pre data collection before lens optimization. -Distortion ID1 Max vector X= 65nm, Y=51nm Min vector X= -87nm, Y= -60nm Reduction= 0.823 - INC ID1 TFD = 0.726 AST= 0.359 Curvature= -0.251 -Distortion ID9 (map is similar to ID1) Max vector X= 67nm, Y=65nm Min vector X= -69nm, Y= -57nm Reduction= -0.742 Post data after lens optimization: -INC ID1 TFD = 0.403 AST= 0.240 Curvature= 0.028 -Distortion ID1 Max vector X= 0.024nm, Y= 0.025nm Min vector X= -0.043nm, Y= -0.042nm Reduction= -0.323 -Distortion ID9 Max vector X= 43nm, Y= 32nm Min vector X= -37nm, Y= -34nm Reduction= 0.270 Main body is not crated FC77 oil is in the chem support Accessories included Deinstalled by OEM No lens data were collected prior to deinstall Currently crated.
NIKON NSR-TFH i14 DL est un pas de tranche qui est conçu pour effectuer des processus de lithographie pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est conçu pour fournir des procédés de lithographie de haute précision avec une précision et une précision de pointe dans l'industrie. NIKON NSR TFH I14DL est équipé de plusieurs fonctionnalités avancées qui aident à fournir des résultats lithographiques supérieurs. Sa conception comprend un étage réticulaire avancé avec un balayage par paliers 4 axes et des capacités d'auto-nivellement, permettant un fonctionnement rapide et fiable. Il comprend également une lentille d'aplatissement du champ d'imagerie de haute qualité pour améliorer l'uniformité de la lumière dans le champ d'imagerie. Le système d'alignement arrière intégré assure un alignement précis des plaquettes et une précision de recouvrement. NSR-TFH i14 DL peut exposer des images allant jusqu'à 4 micromètres avec d'excellentes capacités de résolution. Les résultats sont très précis avec une excellente profondeur de focalisation. L'optique avancée et le système d'éclairage rendent ce pas de plaquette efficace pour aligner même les plus petites structures sur des substrats complexes. Sa capacité exclusive Deep Ultraviolet (DUV) lui permet d'exposer des images même avec les caractéristiques les plus difficiles, donnant une image nette avec un contraste supérieur. La construction robuste de NSR TFH I14DL permet une durée de vie prolongée sans dégradation des performances sous-jacentes ou périphériques. Construit avec son propre langage de modélisation RPC et son interface logicielle complexe, le wafer stepper offre une grande flexibilité et peut être personnalisé en fonction des différentes exigences de traitement. Le NIKON NSR-TFH i14 DL permet de réduire les temps de cycle et de respecter des délais serrés même avec des processus de lithographie complexes. Offrant un profil de faisceau et une puissance de faisceau justes et précis, il permet une uniformité de processus supérieure avec un temps de traitement des plaquettes court. Ses remarquables fonctionnalités matérielles et logicielles contribuent à réduire le coût de possession tout en permettant l'utilisation de substrats de haute qualité. Globalement, NIKON NSR TFH I14DL est un pas de plaquette puissant et fiable conçu pour la fabrication d'appareils. Son optique avancée, son étage réticulaire et ses systèmes d'éclairage permettent d'excellents visuels et des résultats lithographiques de haute qualité. Construit avec son propre langage de modélisation RPC et son interface logicielle complexe, le pas de plaquette est facile à configurer et à personnaliser pour répondre aux exigences spécifiques de l'application.
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