Occasion NIKON PL-2 #293659411 à vendre en France

L'étape NIKON PL-2 est une étape d'alignement de 8 pouces qui est utilisée pour l'impression de microcircuits sur des plaquettes semi-conductrices. Il fournit le plus haut niveau de précision d'alignement et une qualité d'image inégalée pour la fabrication d'appareils de qualité supérieure. PL-2 utilise des technologies d'ingénierie optique de pointe pour réaliser son imagerie de haut niveau, fournissant des images ciblées et uniformément éclairées dans une variété de couleurs et de niveaux de fond. Son ingénierie de précision assure un processus à haut débit en minimisant la détérioration des plaquettes lors des opérations pas à pas. Le pas de plaquette NIKON PL-2 primé est équipé d'un Double Swing Arm Montage Method (DSAM) pour une meilleure répétabilité de la précision d'alignement et un débit accru en production. Le système DSAM comprend un bras supérieur ergonomique avec une précision supérieure des composants et un bras de base de précision avec des articulations réglables. Il utilise une combinaison de commande précise du mouvement à trois axes, d'imagerie optique haute résolution et d'alignement automatisé des plaquettes pour des opérations de superposition très précises. PL-2 wafer stepper utilise un Reflex Alignment System (RAS) pour un alignement rapide, précis et facile à utiliser. Il dispose d'un robot intra-wafer pour améliorer encore les performances des paliers, et d'un actionneur robotique à entraînement direct pour déplacer la wafer à travers le champ de vision pour le balayage et l'alignement plein champ. Le RAS fournit également d'excellents résultats pour les doubles expositions, permettant une précision de recouvrement directe jusqu'à ± 3 μ m pour les couches de processus critiques. L'étage NIKON PL-2 est capable de fabriquer des dispositifs de niveau transistor et condensateur dans des applications d'imagerie en ligne fine. Il supporte des tâches à la fois rapides et de haute précision, avec des résolutions allant jusqu'à 0,25 μ m et des tailles de fonctionnalités allant jusqu'à 6 μ m. Il fournit également une large gamme de colonnes de longueur d'onde d'exposition, de l'ultraviolet à l'infrarouge à ondes longues, pour accueillir différentes applications de longueur d'onde. PL-2 wafer stepper offre des capacités de surveillance avancées avec une fonction de contrôle des processus à l'écran qui permet aux utilisateurs de visualiser en temps réel l'état des processus et les données de performance. Le système fournit également la maintenance à long terme et la fiabilité avec une gamme de programmes de maintenance préventive. En outre, sa conception environnementale comprend une chambre sans poussière et une empreinte minimale pour une utilisation efficace dans les espaces étroits.