Occasion NIKON R2205HMF #293664653 à vendre en France

NIKON R2205HMF
Fabricant
NIKON
Modèle
R2205HMF
ID: 293664653
Stepper reticle.
NIKON R2205HMF est un équipement d'étape de wafer haute performance conçu pour des applications de lithographie avancées. Le système comprend un contrôleur de lithographie avancé, un aligneur de balayage intelligent, un étage 4 axes et une unité d'exposition avancée à balayage. Il est capable de fournir un débit élevé, un contraste élevé et des résultats de haute résolution à la fois fines et ultra-fines sur divers substrats, y compris les plaquettes, les masques dégradants et les films organiques. Le contrôleur de lithographie avancé fournit un contrôle d'exposition reproductible et précis et peut reconstruire plusieurs motifs sur une seule plaquette, ce qui le rend idéal pour les appareils de grande surface. Il prend en charge la couture de haute précision et non destructive des caractéristiques de plusieurs sites par plaquette. L'aligneur de balayage intelligent peut s'ajuster pour les erreurs de décalage de bord dans les processus d'alignement automatisés, permettant une précision d'exposition répétable même avec l'extrême featuretopology. Il a la capacité de gérer la couture macro-niveau de plusieurs plaquettes en une seule opération. L'étage 4 axes est conçu pour fournir un contrôle de mouvement rapide et précis avec une méthode de réaction parallèle ultra-faible. Il fonctionne avec un positionnement précis pour de grands substrats, tels que des plaquettes entières. La machine d'exposition à balayage avancé utilise une excitation à balayage laser avec un champ de vision motivé et une gamme de tailles de réticules. Il est capable d'exposer une seule plaquette à pleine résolution avec une seule exposition. R2205HMF Wafer Stepper est conçu pour la précision et la production rapide d'une grande variété de substrats. Il offre un débit élevé, un contraste élevé et des résultats de haute résolution pour des caractéristiques ultra-fines dans des zones grandes à ultra-grandes. Ses caractéristiques puissantes en font un excellent choix pour les applications avancées de lithographie.
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