Occasion ULTRATECH 1100 #158786 à vendre en France

ULTRATECH 1100 Wafer Stepper est un équipement de lithographie haute performance utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs et des applications de recherche avancées. Ce système est utilisé pour créer des images haute résolution sur des plaquettes de silicium et d'autres substrats en utilisant une lumière ultraviolette intense. 1100 est équipé de technologies avancées de mise en valeur et d'exposition, offrant une résolution d'image supérieure et une précision d'alignement supérieure, tout en produisant des résultats cohérents indépendamment des limitations traditionnelles des pas. Les principaux composants de l'ULTRATECH 1100 comprennent un étage de balayage mécanique, une source lumineuse, un masque (réticule) et un détecteur. L'étape de balayage est conçue pour maximiser la précision et le débit d'exposition. De plus, l'unité d'alignement avancée permet à la machine d'effectuer une exposition précise sur des modèles variés et complexes. La source de lumière intégrée de ce pas est conçue pour produire une lumière définie UV intense et cohérente, tout en fournissant une exposition à l'image supérieure pour assurer une excellente résolution d'image. Le micro aligneur haute performance intégré permet une exposition précise des conceptions de masques les plus complexes. Le détecteur est conçu pour fournir des données d'exposition pour les inspections, le contrôle et la validation de l'exposition de la tranche par tranche, ainsi que la surveillance et l'analyse des performances des échelons en temps réel. 1100 Wafer Stepper est également équipé d'une gamme d'options, y compris des fonctions d'alignement étendues et l'alignement automatique de la buse, qui offrent tous deux une meilleure précision de débit et d'exposition. L'outil dispose d'une architecture très modulaire et est capable de manipuler différentes tailles et applications de plaquettes dont 200 mm, 300 mm et 450 mm. Cet atout lithographique avancé est conçu pour offrir des performances de traitement et une précision supérieures avec la capacité de s'intégrer dans un environnement de production complet. Il est conçu pour réduire les coûts du substrat et augmenter le débit, tout en offrant une excellente résolution d'image, un contrôle de polarisation supérieur et un contrôle de défaut d'image supérieur. ULTRATECH 1100 Wafer Stepper fournit également une interface visuelle intuitive, ce qui facilite l'accès aux données de traitement et apporte des modifications facilement. Le modèle est également conçu pour être compatible avec une variété de systèmes de métrologie et d'inspection. L'équipement est supporté par le service client réactif ULTRATECH, permettant aux utilisateurs de résoudre rapidement les problèmes qui pourraient survenir.