Occasion ULTRATECH 1500 MVS #9229103 à vendre en France

Fabricant
ULTRATECH
Modèle
1500 MVS
ID: 9229103
Taille de la plaquette: 6"
Stepper, 6" TAZMO Robot, 6" Reticle: 3x5 Resolution: 1.0u HEWLETT PACKARD 362 Computer.
ULTRATECH 1500 MVS (MaskApply II Stepper Equipment) est un stepper spécialisé utilisé pour l'imagerie directe de photomasques utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. Le système est conçu pour créer rapidement et avec précision des motifs photomasques pour les procédés lithographiques qui produisent des circuits intégrés. 1500 MVS est capable de produire 3 en dés à des résolutions allant jusqu'à 2 microns. Il utilise la technologie propriétaire SynBit pour l'alignement robuste et l'automatisation des processus. L'unité dispose d'une machine de manutention des plaquettes de haute précision, d'un outil de contrôle antistatique, d'un atout de réglage de l'inclinaison du faisceau de précision et d'un projecteur d'image stellaire. Le modèle Stepper MaskApply II est conçu pour répondre aux besoins des ingénieurs en procédés semi-conducteurs. Il dispose d'une suite de composants matériels et logiciels qui travaillent ensemble pour faciliter un certain nombre de processus d'imagerie compliqués. L'équipement offre une haute performance et la cohérence, atteignant le débit jusqu'à 2100 wafers par heure. Le système de pas MaskApply II offre plusieurs fonctionnalités avancées pour améliorer la précision et la vitesse. Outre les systèmes d'inclinaison et de focalisation, l'ULTRATECH 1500 MVS dispose d'un microscope optique intégré et d'un contrôleur de vide avancé. Ce microscope optique intégré permet d'inspecter avec précision les motifs de masque avant d'imprimer le motif sur la plaquette. Et le contrôleur de vide avancé aide à minimiser le stress sur le masque tout en maintenant un éclairage et une focalisation d'image uniformes. En plus de ces fonctionnalités, 1500 MVS propose un logiciel intégré qui permet aux utilisateurs de créer, analyser et optimiser des recettes de processus. D'autres caractéristiques comprennent une unité de suivi de l'alignement pour le positionnement précis du masque, des bases de données préchargées pour faciliter la comparaison des recettes de processus, et une machine intégrée de surveillance des particules. Dans l'ensemble, l'ULTRATECH 1500 MVS est un pas de plaquette puissant et fiable qui convient au fonctionnement dans une variété d'environnements de processus semi-conducteurs. L'outil fournit un ensemble robuste de fonctionnalités et de capacités qui le rendent idéal pour l'imagerie directe de photomasques, et pour les processus lithographiques qui produisent des circuits intégrés.
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