Occasion ULTRATECH 1500 MVS #9293528 à vendre en France
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ID: 9293528
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2000
Stepper, 6"
Stage type:
SERVO Driven X and Y
Stepper motor driven in theta
Multi-axis air bearings
Laser metered
Laser resolution: 40 nm
Vibration control: Isolated granite table
Computer:
HP 362 Controller
Graphics monitor
Enclosed impact printer
Wafer handling:
Cassette to cassette autoloader
Manual loader / Robotic loader
Imaging and lens (1.0 µm):
Resolution: 1.0 µm
CD Control: 0.9 ≤ CD ≤ 1.1 µm
DOF: > 3.0 µm
Lens distortion: ≤ 160 nm, 100%
Lens matching (A-B): ≤ 180 nm, 100%
Maximum image area: 34.2 x 13.6 mm
Longest rectangle: 39.0 x 11.4 mm
Largest square: 18.0 x 18.0 mm
Exposure spectrum: 390-450 nm
Imaging and lens (0.8 µm):
Resolution: 0.8 µm
CD Control: 0.72 ≤ CD ≤ 0.88 µm
DOF: > 2.0 µm
Lens distortion: ≤ 110 nm, 100%
Lens matching (A-B): ≤ 130 nm, 100%
Maximum image area: 31.80 x 11.5 mm
Longest rectangle: 34.0 x 10.0 mm
Largest square: 15.5 x 15.5 mm
Exposure spectrum: 390-450 nm
Exposure (1.0 µm and 0.8 µm):
Uniformity: 3.0%, 2.5%
Wafer plan irradience: ≥1000 wM/cm²
2000 vintage.
ULTRATECH 1500 MVS (Micro-Atmosphere Vacuum Stepper) est un pas de plaquette haute performance conçu pour les applications photorésist. Cet équipement de pointe est conçu pour fournir un alignement et un placement précis de photorésists haute résolution et dispose de capacités d'imagerie et d'alignement avancées. Il est adapté aux applications avancées de lithographie, y compris les résistances aux UV profonds et aux EUV. 1500 MVS environnement de fonctionnement est isolé de l'atmosphère extérieure par une série de chambres scellées. Sa température, sa pression et son humidité dans les chambres sont prédéterminées aux conditions optimales de lithographie. Cet environnement de vide assure le plus haut niveau de précision d'exposition tout en réduisant les défauts indésirables tels que les marques de grondement et les stries. L'ULTRATECH 1500 MVS dispose d'un système de guidage des avanciers (AGS), qui fournit un contrôle automatique de la focalisation, de l'enregistrement et de l'alignement. Cette unité supporte des erreurs d'alignement des plaquettes aussi petites que 0,7 microns et un contrôle précis de la profondeur de focalisation. Il comprend également une machine de mesure gaussienne intégrée de détection de courbe de lumière pour garantir la meilleure qualité d'image et les meilleurs résultats de lithographie. 1500 MVS dispose d'un outil de contrôleurs Prodigy et d'un logiciel d'acquisition avancée de la marque. Ce logiciel est conçu pour une intégration rapide et flexible de l'imagerie et des données optiques dans l'actif. Il supporte jusqu'à quatre couches, une variété de méthodes d'imagerie, et presque n'importe quelle étape et procédure de répétition. Il appuie également la capacité d'examiner et de comparer les résultats de différentes analyses et processus d'exposition, offrant un aperçu rapide des effets de l'exposition. ULTRATECH 1500 MVS est conçu pour traiter toutes les tailles de plaquettes jusqu'à 8 pouces. Ce pas a une vitesse de balayage maximale de 40 mm/s, assurant une productivité élevée dans les applications de production et de recherche. Une fonction automatisée de reconnaissance de la taille du faisceau est également incluse pour ajuster automatiquement les paramètres d'exposition pour une imagerie optimale. 1500 MVS est un pas de tranche avancé de haut de gamme conçu pour fournir les images les plus haute résolution pour les processus de lithographie. Il est équipé de fonctionnalités avancées de pas à pas, de capacités sophistiquées de contrôle et de traitement d'image, et d'un alignement et d'une stabilité extrêmement précis. C'est le choix parfait pour les installations de production et de recherche qui nécessitent des résultats d'exposition précis et cohérents.
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