Occasion ULTRATECH 1500 WAS #9302572 à vendre en France

ULTRATECH 1500 WAS Wafer Stepper est un outil avancé utilisé pour générer des photomasques avec des caractéristiques très précises pour des applications photolithographiques. Cet outil peut produire des caractéristiques allant de 15-150nm, et est idéal pour les processus de dispositifs semi-conducteurs. Il est composé de plusieurs sous-systèmes distincts, dont un scanner, un moteur pas à pas, des étages réticulaires et des logiciels. Le scanner fonctionne comme le dispositif d'entrée et le système d'objectif, et agit comme une source de lumière pour l'étape. Son optique de précision utilise le rayonnement UV pour fournir une taille de tache lumineuse uniforme à la plaquette, et est réglable pour conserver l'énergie tout en fournissant la lumière UV nécessaire à chaque étape du processus. En outre, le scanner peut scanner un réticule jusqu'à 2,25 pouces carrés dans la taille et est réglable pour répondre aux exigences de tolérance. Le moteur pas à pas est un moteur pas à pas à entraînement direct qui fournit précision de position et répétabilité. Il est équipé d'un moteur inertiel pour assurer une performance lisse et sans vibrations tout en déplaçant l'étage réticulaire. L'étage réticulaire maintient la plaquette en place tandis que le moteur pas à pas la déplace par paliers aussi petits que 1/10ème de millimètre. Ensuite, 1500 WAS Wafer Stepper utilise un logiciel avancé pour contrôler le stepper et les niveaux de lumière pour chaque étape du processus. Le logiciel est conçu pour maximiser l'efficacité du processus et réduire le temps de cycle total. Il permet aux opérateurs de sélectionner une variété de processus pour la création de photomasques, allant de la réduction uniforme 4x à une plage de focalisation très limitée. En outre, le logiciel peut automatiser la configuration et l'exécution du processus, éliminant la nécessité d'ajuster manuellement les paramètres. Enfin, l'ULTRATECH 1500 WAS Wafer Stepper offre un haut degré de fiabilité, de précision et de répétabilité. Son système moteur inertiel amortit le mouvement tandis que son moteur pas à pas à entraînement direct assure un positionnement sécuritaire des réticules. En outre, son optique UV de précision fournit une taille de tache lumineuse constante à la plaquette tout au long du processus. De plus, 1500 WAS Wafer Stepper est facilement intégré dans les processus semi-conducteurs existants pour maximiser l'efficacité. En conclusion, ULTRATECH 1500 WAS Wafer Stepper est un outil avancé capable de produire des photomasques précis à haute répétabilité. Ses moteurs pas à pas inertiels et à entraînement direct assurent un positionnement précis des réticules tandis que ses optiques UV de précision fournissent une taille de tache lumineuse uniforme pour le processus. En outre, 1500 WAS Wafer Stepper est facilement intégré dans les procédés semi-conducteurs existants, ce qui en fait un excellent choix pour les applications photolithographiques.