Occasion ULTRATECH 1500 #9098755 à vendre en France

ULTRATECH 1500 est un pas de plaquette haut de gamme développé par ULTRATECH, leader de l'industrie des équipements semi-conducteurs et des solutions de contrôle des processus. Doté d'un procédé propriétaire en deux étapes, le stepper est conçu pour permettre un traitement lithographique rapide et précis des structures avancées des dispositifs semi-conducteurs. 1500 comprend également une gamme de fonctionnalités avancées pour rendre la fabrication des appareils plus facile et plus efficace. Le procédé en deux étapes de l'ULTRATECH 1500 commence par l'apposition d'un réticule à quartz sur la plaquette. Le réticule contient un motif maître, qui est converti en un tableau de sous-motifs en exposant la plaquette à la lumière ultraviolette. La lumière UV traverse un masque optique à quartz, qui étend la gamme des tailles de motifs. La deuxième étape du procédé consiste soit à transférer les motifs sur la plaquette par gravure sèche ou humide, soit à effectuer l'écriture directe de l'appareil, ce qui permet de réaliser des balayages à haute résolution à l'aide d'un réseau de faisceaux ioniques focalisés multiples. 1500 dispose également d'une variété d'autres fonctionnalités avancées, comme un indice cinétique à vide (VKI) à pleine portée, qui permet une gamme améliorée de mouvements et une meilleure précision. De plus, le stepper dispose d'un module de calibration embarqué, qui est conçu pour mesurer le chemin optique (focus, aberrations) et fournir une rétroaction haute résolution en temps réel pour les besoins de la lithographie optimisée. Les fonctions de sécurité intégrées à l'ULTRATECH 1500 comprennent un verrouillage de sécurité ultraviolet, une fonction de libération automatique et des modules de sécurité pour l'évacuation et l'alimentation en air. De plus, sa conception ergonomique permet une meilleure expérience de l'opérateur, avec une interface tactile intégrée qui simplifie la configuration et le fonctionnement du produit. En somme, 1500 est une étape avancée et de haute précision pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs sophistiqués. Son procédé propriétaire en deux étapes minimise le temps d'exposition et permet une description lithographique précise < em >, </em >, tandis que sa gamme de fonctionnalités avancées offre aux utilisateurs une expérience d'opérateur améliorée, ainsi qu'une efficacité et une sécurité accrues.