Occasion ULTRATECH 2700 #9312331 à vendre en France

ULTRATECH 2700 Wafer Stepper est un équipement de lithographie automatisé et informatisé pour les produits semi-conducteurs. Il est spécifiquement conçu pour appliquer des couches minces de film sur une plaquette, en avançant la plaquette à travers une série de lentilles et de systèmes d'imagerie avec une variété de types de film et de réglages. 2700 a un champ de vision de 12 par 12 pouces, et une profondeur de focalisation de ± 3,5 μ m. Il est capable de temps d'exposition de 1 à 20 s, ce qui le rend adapté à différentes applications. Les composants principaux de l'ULTRATECH 2700 Wafer Stepper comprennent un projecteur, un ensemble de lentilles, une nacelle, une cassette de wafer, une tête de stepper et un ordinateur de contrôle. Le projecteur est chargé de projeter le motif sur la plaquette, et le système de lentille est utilisé pour faire varier la taille du champ de vision. La tête de pas est chargée de déplacer la plaquette à travers le champ de vision de manière précise. La nacelle sert à échanger des plaquettes entre la cassette et la tête de pas. La cassette de plaquette est utilisée pour maintenir la plaquette pendant le traitement. Enfin, le calculateur de contrôle est chargé de contrôler le mouvement de la plaquette et de gérer l'exposition du film. 2700 Wafer Stepper est capable de traiter des plaquettes jusqu'à 8 pouces de diamètre, et est capable de vitesses allant jusqu'à 3,6 Hz (3,6 expositions/seconde). Il peut gérer plusieurs tailles de plaquettes, et son unité de commande avancée assure un alignement précis lors des expositions. Sa machine de diagnostic embarquée surveille l'exposition et fournit des commentaires sur tout problème. Son outil avancé de gestion thermique assure la stabilité thermique de l'actif tout au long du processus. Enfin, l'ULTRATECH 2700 Wafer Stepper comprend une gamme de fonctionnalités utiles, comme une procédure de calibration qui aide à réduire la dispersion due à un mauvais réglage de la focale, et une option de création automatique qui permet à l'utilisateur de configurer rapidement le modèle pour un travail spécifique. Il est capable de manipuler un large éventail de types de films, y compris des films de procédés défocalisés in situ et des films de procédés secs. Au total, 2700 Wafer Stepper est un équipement de lithographie avancé, automatisé et informatisé conçu spécifiquement pour le traitement des semi-conducteurs. Il est capable de traiter des plaquettes jusqu'à 8 pouces de diamètre, et offre une grande précision et précision sur une gamme de temps d'exposition. Son système de contrôle avancé assure un alignement précis lors des expositions, tandis que ses fonctionnalités utiles, telles que son option de création automatique, aident à réduire le temps consacré à la création d'emplois.