Occasion ULTRATECH AP 300 #293595884 à vendre en France
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ID: 293595884
Style Vintage: 2006
Stepper, 12"
Standard features target: 2 µm
Standard field: 44 mm x 26.7 mm
Test reticle: 6 x 6
Wafer thickness handling: 0.4 mm - 2 mm
Universal size / Wafer kit: 8" and 12"
FOSB Cassette to cassette wafer handling
PATMAX MVS Alignment system
MVS Alignment spectrum: 530 nm - 570 nm
Dual lamp illuminator, 1200 W
GHI-Line broadband lens
GHI-Line auto filter changer
FOUP Wafer handler
Extended field
6-Slots reticle stack
manual front loading
GEM HSMS Communications
Environmental chamber
Enhanced bottom pellicle protection
Closed loop cooling
Prism purge kit
Dual flip aperture size: 44 mm (Largest)
Power source: 208 V, 150 A, 3-Phase, 5-wires
2006 vintage.
ULTRATECH AP 300 est un pas de plaquette entièrement automatisé spécialement conçu pour les applications avancées de lithographie. Il s'agit d'un pas à 3 axes qui peut supporter une taille de substrat allant jusqu'à 300mm, avec un taux de minification de 5:1. Sa vitesse de balayage maximale peut atteindre 10000mm/sec, et il offre également une accélération allant jusqu'à 80000mm/s ². ULTRATECH AP300 supporte deux modes de projection d'images : Knoll-Hart et Galvo. Le mode Knoll Hart projette plusieurs taches laser simultanément, ce qui permet un temps d'exposition plus court ; la résolution maximale peut atteindre 0,3 µm. D'autre part, le mode Galvo présente l'avantage de fournir un profil d'intensité uniforme, avec une résolution maximale de 0,7 µm. De plus, l'unité peut effectuer un balayage rapide des motifs 2D. L'AP 300 est conçu avec de multiples dispositifs de sécurité pour protéger contre les dommages pendant le fonctionnement. La première fonction de sécurité est le mécanisme de ré-étalonnage, qui permet de recalibrer automatiquement le système après chaque exposition. Cela rétablit la résolution d'origine, garantissant l'exactitude à tout moment. La deuxième caractéristique est le renforcement du mécanisme d'autoprotection ; ceci permet de détecter les erreurs qui se produisent pendant la lithographie et d'arrêter immédiatement le processus. AP300 dispose également d'un écran tactile de qualité industrielle pour permettre un fonctionnement sans tracas. Il fournit une interface utilisateur graphique complète, permettant aux utilisateurs de visualiser et de contrôler facilement le système. En outre, l'unité est équipée de l'interface OMR sophistiquée, qui permet aux utilisateurs de surveiller l'ensemble du processus du début à la fin. De plus, l'ULTRATECH AP 300 offre un environnement personnalisable pour garantir des performances optimales dans différentes conditions d'éclairage. Cela peut aller de l'éclairage standard aux conditions de chambre noire, permettant aux utilisateurs de personnaliser l'environnement pour chaque application. ULTRATECH AP300 est conçu pour fournir une précision et une fiabilité supérieures pour les applications de lithographie avancées. Son balayage rapide et sa projection laser de précision en font une option idéale pour la recherche et les applications industrielles. La sécurité avancée et l'interface intuitive de l'unité garantissent un fonctionnement simple et précis pour tout utilisateur.
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