Occasion ULTRATECH AP 300 #293631544 à vendre en France

Fabricant
ULTRATECH
Modèle
AP 300
ID: 293631544
Stepper Environmental chamber Extended field target: 2 µm GHI-Line auto filter changer Broadband lens Dual lamp illuminator, 1200 W FOSB Cassette to cassette handler FOUP Wafer handler Test reticle: 6x6 Wafer thickness: 0.4 mm to 2 mm PatMax MVS Alignment spectrum: 530 nm - 570 nm 6-Slots reticle stack Front loading: Manual Enhanced bottom pellicle protection Edge exclusion with exclusion ring size, 15 mm Closed loop cooling Prism purge kit Power supply: 208 V, 150 A, 3-Phase, 5-wire.
ULTRATECH AP 300 est un pas de tranche pas à pas et répétition conçu pour des applications de photolithographie à haut volume. Cet équipement est conçu pour fournir une production fiable et précise de la tranche de champ de vision vertical (FOV) pas en alignant et en transférant précisément les motifs de photomasque sur la tranche. Il offre une résolution de 0,25 μ m, une taille minimale de 0,17 μ m et une variation de focalisation de 0,008 μ m. L'ingénierie de pointe de l'ULTRATECH AP300 lui confère une vitesse de pointe avec des temps de dérapage aussi rapides que 0,35 seconde pour les plaquettes alignées fines et 0,9 seconde pour les plaquettes alignées moins fines. De plus, la capacité de produire jusqu'à 10 000 plaquettes par heure en fait une machine rentable et à temps. Le pas de plaquette est entraîné par un étage X-Y motorisé très sophistiqué et précis. L'étage motorisé présente une résolution sous-nanométrique et une précision de positionnement de 0,2 μ m. Ce moteur puissant permettra de s'assurer que les mouvements à grande vitesse du dispositif restent dans les limites de la précision définie. Cela aidera à augmenter le débit pour les applications pas à pas de plaquettes. L'AP 300 comprend un boîtier durable et compact avec un moniteur couleur TVLine 12,7 "700 haute définition et un système de visualisation 3D. Le système de visualisation est parfait pour surveiller et inspecter le processus de lithographie sans aucune perturbation. De plus, le système de visualisation est intégré à une optique sophistiquée, ce qui lui permet d'inspecter les plaquettes avec une précision de 2 μ m et un champ de vision de 860-1200 μ m. Afin d'optimiser l'utilisation du pas de plaquette, AP300 est conçu avec un logiciel convivial qui permet aux utilisateurs de programmer un large éventail d'opérations. Le logiciel est également compatible avec le langage d'ingénierie de fabrication (MEL), permettant aux utilisateurs de contrôler le fonctionnement de manière efficace. Pour sa rigidité, sa précision et sa vitesse de fonctionnement, l'ULTRATECH AP 300 est un pas de plaquette efficace et fiable. Il est utilisé dans les secteurs du semi-conducteur, de l'affichage à panneaux plats et d'autres secteurs connexes pour produire des transferts de photomasques avec une cohérence et une productivité améliorées.
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