Occasion ULTRATECH Mercury XLS 200 #9228467 à vendre en France

ID: 9228467
Style Vintage: 2000
Wafer stepper 2000 vintage.
ULTRATECH Mercury XLS 200 est un pas de plaquette haute performance conçu pour la fabrication rentable de dispositifs microélectroniques avancés. Il est construit pour la précision et la fiabilité, ce qui le rend idéal pour les opérations de lithographie pour produire des conceptions denses et complexes avec de petites caractéristiques géométriques. Les capacités d'imagerie améliorées du XLS 200 le rendent bien adapté aux géométries serrées et aux caractéristiques de conception de pointe. Avec une vitesse de balayage rapide de 4450mm/sec, il offre des temps de traitement rapides et précis même pour les modèles les plus denses. L'optique haute résolution offre une uniformité et une qualité d'image supérieures avec une largeur de ligne de 13 nm. Le système de manutention avancé permet un chargement rapide des plaquettes et un alignement précis tandis que l'extrémité avant active assure de faibles niveaux de contrainte des plaquettes. Le système est équipé d'un système de contrôle sophistiqué qui comprend un réglage automatisé de la chambre à vide, un contrôle du temps d'exposition et un contrôle de la contamination. Les fonctions de réglage et d'optimisation automatisées assurent des interactions précises entre le scanner, la source d'exposition et les plaquettes pour une performance optimale du procédé. La compensation automatique de la dérive et de la focalisation est disponible avec le XLS 200 pour maintenir des niveaux élevés de précision dans le temps. Pour améliorer la productivité, le XLS 200 dispose d'un traitement par lots avec de multiples options de chargement et de déchargement des plaquettes et une interface utilisateur basée sur les recettes. Sa précision et sa répétabilité sont inégalées sur le marché des systèmes de lithographie et il a été conçu avec un entretien facile. Mercury XLS 200 est une merveille d'ingénierie pour les paliers de wafer, permettant une fabrication rentable et des opérations de lithographie complexes avec précision et fiabilité. Ses caractéristiques et capacités le rendent idéal pour produire des conceptions avancées pour l'industrie des semi-conducteurs.
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