Occasion ULTRATECH Sapphire 100 #293645247 à vendre en France
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ID: 293645247
Taille de la plaquette: 4"
Style Vintage: 2011
Stepper, 4"
Reticle size: 3 x 5
Lens resolution: 2 µm
I-Line illuminator wavelength
TAZMO Loader
PC
2011 vintage.
ULTRATECH Sapphire 100 est un pas hiérarchique multi-champs de plaquettes spécialement conçu pour les applications MEMS, optoélectronique et autres semi-conducteurs. C'est un outil de pointe équipé des dernières technologies de lithographie, de métrologie et d'automatisation. Cet outil a une taille de pas d'un demi-micron ultra rapide, ainsi qu'une précision maximale répétable de ± 1 micron. Il offre également une gamme très flexible d'impulsions d'entraînement, de paramètres de processus et de personnalisation pour assurer une production au niveau de l'entreprise. Sapphire 100 est un pas économique et performant idéal pour les applications qui nécessitent une très haute précision. Il a la capacité de fournir avec précision et sans faille des formes de motifs exactes, des tailles de caractéristiques et une précision de position. Cela en fait un excellent choix pour la fabrication de dispositifs essentiels tels que les micropackages, MEMS, SOI, interrupteurs avancés et lentilles multi-ouvertures. Le stepper est équipé d'un contrôleur puissant et rapide et d'une optique optimisée, composée de lentilles multiples et de sources d'éclairage LED multicolores et de grande puissance. Ce système permet le balayage de substrats jusqu'à 5x tailles de pas de 1 μ m et au-delà, avec une précision de processus maximale de ± 0,5 μ m. La technologie de numérisation par étapes hiérarchique multi-champs réduit le temps de mise sur le marché et améliore le débit, avec plus de 600 parties par heure. ULTRATECH Sapphire 100 a été finement ajusté pour offrir une qualité d'image supérieure, un meilleur débit et une optimisation harmonique de l'éclairage. Il dispose également d'un système de nettoyage in situ pour garantir des normes strictes de contrôle de la contamination, ainsi que des diagnostics et de l'analyse automatisée des données de processus pour minimiser la ferraille et augmenter le rendement. En outre, Sapphire 100 dispose d'une interface conviviale pour la programmation de formes géométriques complexes, avec l'option pour plusieurs comptes utilisateurs pour des flux de travail améliorés. Dans l'ensemble, ULTRATECH Sapphire 100 est un outil essentiel pour les applications MEMS, optoélectroniques et autres semi-conducteurs. Alliant précision et flexibilité, sa qualité d'image supérieure, son balayage hiérarchique multi-champs, son système de contrôle avancé et son nettoyage in situ le rendent idéal pour une production performante et rentable.
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