Occasion ULTRATECH Sapphire 100 #293645287 à vendre en France

ULTRATECH Sapphire 100 est un équipement de lithographie haute précision et à haut débit capable de produire des motifs précis sur une variété de substrats. Ce stepper est conçu pour des applications avancées de recherche et de développement, permettant aux fabricants de transférer avec précision et efficacité des structures minces et photoniques sur des substrats. Sapphire 100 offre une gamme d'avantages technologiques qui permettent aux utilisateurs de reproduire avec précision des modèles et des structures avec une grande fidélité et fiabilité. Le générateur de motifs intégré du système génère automatiquement et commodément les structures les plus précises, sans intervention de l'utilisateur nécessaire tout au long du processus. De plus, l'unité produit une résolution de haute fidélité pouvant atteindre 1,5 μ m. ULTRATECH Sapphire 100 dispose également d'une taille de champ journalière améliorée qui peut produire des largeurs de ligne inférieures à 0,25 μ m, et il est capable de travailler avec des plaquettes qui mesurent jusqu'à 5 pouces de long. Ce stepper dispose également d'une interface intégrée avec une variété de logiciels et de systèmes tiers, permettant une intégration facile des ensembles de données, pour permettre aux utilisateurs de produire rapidement des modèles et des conceptions précis. Sapphire 100 dispose d'une efficacité de numérisation automatique et d'une surveillance de focalisation automatisée qui travaillent ensemble pour assurer une précision et une répétabilité optimales. Cette machine dispose également d'une variété d'options d'exposition pour produire la plus grande fidélité des micro-structures, telles que des masques à moyenne résolution et des dessins en ligne fine. L'outil est également équipé d'un contrôle avancé de la température, de capacités de réduction de la poussière et de faibles niveaux de vibration qui contribuent à la précision et aux performances globales de l'actif. ULTRATECH Sapphire 100 est livré avec une variété d'accessoires matériels et logiciels, y compris une fonction auto-charge/éjection, une source lumineuse laser, un modèle d'alarme, et une variété d'options de réseautage et de gestion de données. Avec un design compact et ergonomique, cet équipement est convivial et facile à installer et à entretenir. Le système est également capable de s'intégrer dans un large éventail d'opérations de fabrication. En conclusion, Sapphire 100 est une unité de lithographie haute précision et à haut débit conçue pour des applications avancées en recherche et développement. Cette machine offre une gamme d'avantages technologiques, y compris un générateur de motifs, une haute résolution de fidélité, une taille de champ de scan-jour améliorée, des options d'exposition, un contrôle de la température, des capacités de réduction de la poussière, et de faibles niveaux de vibration. Il est convivial et peut être facilement intégré dans une variété d'opérations de fabrication.