Occasion ULTRATECH Sapphire 100 #293649647 à vendre en France

ULTRATECH Sapphire 100 wafer stepper est un équipement de lithographie avancé conçu pour le photomasage dans les applications semi-conductrices. Saphir 100 est capable de traiter des plaquettes jusqu'à 6 pouces de diamètre avec une précision de 2 microns. Il offre également diverses options d'alignement et de débit de superposition pour assurer une fixation précise des réseaux haute densité ou des structures complexes. ULTRATECH Sapphire 100 est équipé d'un système de mise au point dynamique, d'un objectif standard de 6 pouces et de capacités d'imagerie avancées, y compris un observateur adaptatif qui permet l'ajustement dynamique des paramètres d'exposition pour une précision maximale du motif. Saphir 100 permet également de choisir une gamme de paramètres d'exposition différents, y compris le temps d'exposition, la dose et le nombre d'impulsions. L'unité dispose d'un programme propriétaire de photomasques NEGA π qui peut être utilisé pour aligner avec précision les structures avec une précision de micro-niveau allant jusqu'à 6 microns. ULTRATECH Sapphire 100 a la capacité de traiter une variété de types de matériaux, dont le silicium, l'arsenide de gallium et le silicium germanium, ainsi que des films minces d'une épaisseur allant jusqu'à 1000 angströms. La machine est bidirectionnelle, c'est-à-dire qu'elle peut être utilisée pour exposer des réseaux réalisés soit en mode contact, soit avec impression à contact de proximité. Sapphire 100 dispose d'un manipulateur robotique embarqué pour le chargement et le déchargement automatiques des plaquettes, ainsi que d'un compteur d'énergie numérique pour des relevés précis de l'énergie. En outre, l'outil utilise l'optique avancée, y compris l'éclairage rotatif, pour assurer une transmission optimale de la lumière. ULTRATECH Sapphire 100 comprend deux options de contrôle différentes : un atout de contrôle défini par le client et un modèle d'exposition automatique/éclairage intelligent, qui permet à l'utilisateur de définir et de contrôler les paramètres d'exposition et de mise au point sans intervention directe externe. L'équipement est également capable de surveillance en temps réel, ce qui fournit une rétroaction rapide sur les résultats du processus de lithographie. Sapphire 100 est conçu pour un photomasage rapide et précis pour un large éventail d'applications. Sa combinaison de paramètres d'exposition réglables et de capacités de lithographie précises permet de modeler avec précision des structures de densité complexes ou de très petites structures. La combinaison de l'optique avancée, de la manutention automatisée des plaquettes et de l'éclairage intelligent garantit des résultats de lithographie optimaux pour répondre aux normes de performance les plus élevées.