Occasion ULTRATECH Sapphire 100 #9115599 à vendre en France

ULTRATECH Sapphire 100 est un pas de plaquette conçu pour faciliter la réalisation de circuits intégrés. Ce dispositif utilise la technologie de lithographie ultraviolette extrême (EUV) pour modeler avec précision les couches de dispositif semi-conducteur sur une plaquette. En utilisant la technologie d'exposition avancée, les utilisateurs peuvent obtenir une précision de calcul dans ± 4 nanomètres (nm). La lithographie EUV fournit une résolution beaucoup plus élevée que ce qui est réalisable avec les techniques traditionnelles de lithographie ultraviolette (UV). Saphir 100 est conçu pour la précision des rendements de production. Avec un pas jusqu'à 22nm ; jogging et la spécification de pas de ± 2 μ m, avec des bords parfaitement alignés ; et l'enregistrement des images sous nm, les traits fins et les motifs peuvent être reproduits avec précision. L'alignement de haute précision que le dispositif est capable de réaliser permet la réalisation de circuits intégrés denses. ULTRATECH Sapphire 100 dispose d'un débit élevé avec une combinaison d'exposition haute résolution capable de générer 4 000 à 5 000 plaquettes par heure. Ce dispositif peut également être intégré à d'autres technologies sans masque sans investissement supplémentaire nécessaire. Saphir 100 est capable de produire des plaquettes plus petites que la plupart des autres marches. Ceci, avec l'utilisation de composants de pointe, permet aux utilisateurs de faire l'expérience d'un faible coût par plaquette. Certaines fonctions périphériques, telles que la possibilité d'aligner manuellement la cadence du motif, font également partie du dispositif. ULTRATECH Sapphire 100 est conçu pour la fiabilité et la performance constante de la sortie. Il a également le potentiel d'aborder la variabilité des composants uniques, ce qui est nécessaire pour la production de grands circuits intégrés. En plus de ses performances de haute précision, le Sapphire 100 s'est avéré être un appareil efficace et économique pour les fabricants de puces. La machine est conçue avec des interfaces graphiques conviviales qui la rendent facile à utiliser. De plus, le dispositif est compatible avec tous les grands systèmes pas à pas. En résumé, ULTRATECH Sapphire 100 est un pas de plaquette de haute précision conçu pour permettre la réalisation de circuits intégrés bien emballés. En utilisant des composants et des technologies de pointe, le dispositif est capable de produire une précision de calcul fine ± 4 nm, un débit élevé de 4 000 à 5 000 plaquettes par heure, et une performance efficace et rentable. Les interfaces graphiques conviviales et la compatibilité arrière avec d'autres systèmes sans masque font de Sapphire 100 un choix polyvalent et économique pour les fabricants de puces.