Occasion ULTRATECH Saturn Spectrum 300 #9198660 à vendre en France
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Vendu
ID: 9198660
Style Vintage: 2005
Stepper
Mainframe configurations:
Controller unit:
Centralized control and distributed control
SECS Compatibility
Exposure unit:
Hg Lamp
GHI-Line light source
Indexer unit:
Two cassette loader / Unloader
Universal wafer size
Transfer unit:
Robot
Can handle 6", 8" and 12" wafers, both notch and flat type
Wafer stage unit:
Linear motor XY stage
Reticle stage
Automated wafer thickness compensator
Alignment unit:
Pre-alignment: Automatic enhanced global alignment
Through the lens alignment
MVS (Machine vision system) pattern recognition system
Closed loop dose control system
Focus detector and focus leveling system
Operation unit:
Alignment monitor
Program execution monitor
Keyboard or joy-stick
Printer
Safety unit:
Vibration isolation system
Auto alarm system
Interlock protection system
Hardware specification:
Notch and flat wafer
SEMI and JEIDA standard
Wafer thickness: 11-30 mil
Stage type:
Linear motor drive
3-Axes of freedom
Wafer handling:
Cassette to cassette
Conform to SEMI and JEDIA standard
Hg Lamp type: 1000 Watt
Reticle size: 6 x 6 x 0.25 inch
Reticle library: (12) Slots library with barcode reader
Fields per reticle:
1-4
6 x 6" -2- field, max field size: 44.0 x 26 mm
6 x 6" -3- field, max field size: 37.6 x 26 mm
6 x 6" -4- field, max field size: 27.6 x 26 mm
Maximum field size: 44 x 22 mm
Global alignment: Within ± 40 µm placement accuracy
Enhanced global alignment: 500 nm, 3δ (Reticle image recognition alignment system)
Alignment optical system: Bright field alignment
Up-time: ≥90%
MTTR: <4 Hours
Reliability test: Cycling test: > 500 wafers (with alignment) processed without reject and fail
Wafer breakage: ≤ 1/ 10000
Vibration control: Active air isolation
Computer / Printer type:
VME Bus controller
CPU: ≥35 MHz
Color graphic monitor
Enclosed impact printer
Process specification:
Minimum feature size: ≤1.40µm
DOF (Depth of focus):
≥ 4 µm (at 2 µm L/S with 2 µm thickness of resist)
≥ 8 µm (at 30/10 µm L/S with 23 µm thickness of resist)
≥10 µm (at 50 µm L/S with 120 µm thickness of drvr film)
Dynamic focus: Provides capability of exposing photosensitive films from 1- 125µm
CD Uniformity: ≤±10%
Irradiance at wafer plane: ≥1200mW/Cm²
Maximum image area: 44 X 26 mm²
Exposure spectrum: 350 - 450nm (GHI-line/ Full spectrum)
Exposure uniformity: ≤ ±4%
Alignment accuracy: ≤ 0.5 µm (3δ)
Throughput: 8-inch wafer, 400mj/ Cm², 44 x 22 mm field size, wafer layout 26 steps: >60 wph
Exposure linearity:≤ ±1%
2005 vintage.
ULTRATECH Saturn Spectrum 300 est un pas de plaquette haute performance conçu pour répondre à toutes les exigences d'imagerie pour les applications de lithographie. Grâce à son design ultramoderne, Saturn Spectrum 300 offre un alignement précis, une exposition reproductible et une imagerie répétable sur l'ensemble de la plaquette. Le stepper dispose d'un équipement optique avancé avec un large champ de vision (FOV), assurant une résolution maximale sur la surface de la plaquette. Le FOV peut être étendu jusqu'à 300 mm et la profondeur totale de focalisation (DOF) atteinte est inférieure à 2,5 microns. La caméra CCD haute vitesse numérisée et les algorithmes sophistiqués de reconnaissance de motifs utilisés dans le système assurent un alignement de haute précision et une exposition précise. La plaque de base réglable de l'ULTRATECH Saturn Spectrum 300 fournit une résolution de mouvement fine et un alignement précis des plaquettes. La plaque de base peut être ajustée pour l'enregistrement des sections jusqu'à quatre zones, ce qui permet l'exposition des systèmes irréguliers. Le profil de mouvement du pas peut être ajusté pour optimiser le débit et réduire le temps de cycle. Saturn Spectrum 300 dispose d'une gamme d'outils d'imagerie avancés, dont une fonction complexe de reconnaissance de motifs de masque, un outil de transformation de bandes d'image négatives et une unité de focalisation automatique avancée. La fonction avancée de reconnaissance du masque identifie et localise les objets pendant l'impression. L'outil de transformation des bandes d'image négatives prend en charge les changements de direction d'un motif lors de l'impression. La machine de mise au point automatique de pointe assure des ajustements de mise au point appropriés pendant l'imagerie. En outre, l'ULTRATECH Saturn Spectrum 300 est équipé d'un étage motorisé 3 axes, offrant neuf degrés de liberté, pour fournir une précision de mouvement supérieure. L'étage motorisé à 3 axes supporte un motif correspondant à l'intérieur d'une structure donnée en utilisant une variété d'étapes, tandis que l'obturateur rotatif intégré entre les expositions produit un champ d'exposition extrêmement uniforme. Ce pas de tranche est compatible avec les sources de rayonnement recommandées telles que le laser ArF et la ligne I pour l'impression précise. Saturn Spectrum 300 dispose de dispositifs de sécurité intégrés pour la mesure de la dose de rayonnement afin de protéger les utilisateurs contre l'exposition. Dans l'ensemble, ULTRATECH Saturn Spectrum 300 est un pas de plaquette polyvalent et précis, offrant une résolution, une répétabilité et une précision supérieures dans les applications de lithographie
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