Occasion ULTRATECH Star 100 #9252513 à vendre en France

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Fabricant
ULTRATECH
Modèle
Star 100
ID: 9252513
Stepper Illumination field size: 39 x 18 mm Light pipe type: Diffuser Field size: 30 x 18 mm MVS Type: Patmax Series 2 bridge Flipper less Reticle size: 3" x 5" PC With windows 2000 Platform Air probe type: Round Edge switch: Air probe Theta stage: Pop-up Wafer handler: Round chuck, 4" Autoloader, 4" Options: Chuck and autoloader, 5" and 6" Upgraded to automation robot system 2006 vintage.
ULTRATECH Star 100 wafer stepper est un outil lithographique avancé utilisé pour tracer des structures petites et grandes sur une plaquette semi-conductrice. Il s'agit d'un stepper haut de gamme, capable de produire des images de haute résolution et de haute précision tout en maintenant une focalisation et un alignement très précis sur l'ensemble de la plaquette. ULTRATECH STAR100 utilise un mode avancé d'éclairage optique appelé lithographie d'immersion KrF. Cette technique utilise une source d'éclairage UV profonde et une réaction chimique entre la plaquette et la zone éclairée qui se traduit par une haute résolution en raison de la plus grande profondeur de focalisation et de la petite taille de la source KrF. L'optique de projection biaisée à la pointe de la technologie Star 100 permet des réglages extrêmement fins lors de l'imagerie avec des exigences de tolérance strictes. En outre, l'optique de projection fournit une ouverture numérique élevée qui, avec la résolution sous micron de l'équipement d'imagerie, assure que les motifs lithographiques projetés sont de la plus haute qualité. L'étape ultra-précise de STAR100 améliore encore sa capacité d'imagerie. Cette étape combine un système de contrôle de mouvement haute résolution et un lecteur d'indexation finement ajusté pour une précision d'alignement optimale. L'étage a à la fois un axe x et un axe y pour obtenir une précision de positionnement de 0,5 micron. Pour le contrôle du substrat, l'ULTRATECH Star 100 emploie un mandrin en diamant microcristallin. Cette machine élimine les effets de bord et assure une répartition uniforme de la température sur la plaquette pour un transfert optimal des motifs. Les contrôles source/exposition d'ULTRATECH STAR100 sont conçus pour une répétabilité et une fiabilité supérieures. Il dispose d'une gamme de paramètres réglables de l'outil 6, allant de la puissance laser à la vitesse d'obturation, qui permettent un réglage complexe du processus d'exposition. Enfin, le Star 100 est équipé d'un outil sophistiqué de détection et de correction des défauts qui peut détecter les problèmes potentiels avant qu'ils ne causent des erreurs dans le processus de fabrication. Ce modèle analyse en continu les plaquettes et surveille les paramètres pour détecter les écarts et, le cas échéant, peut activer les alarmes ou ajuster automatiquement les paramètres du processus.
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