Occasion ULTRATECH Titan 4700 #293751572 à vendre en France

ULTRATECH Titan 4700 est un pas de plaquette haute performance conçu pour des applications de lithographie multi-motifs. Il est capable de prendre des photos haute résolution à différents angles et profondeurs et de fournir des motifs à haut rendement sur une gamme complète de substrats, y compris le silicium, la céramique et les matériaux composites. Titan 4700 est conçu pour réduire les temps de cycle et simplifier le fonctionnement en combinant les fonctions d'automatisation des processus et de métrologie avec un équipement d'imagerie haute résolution. Le système d'imagerie utilise une optique haute vitesse avancée et un photomasque ultra-fin pour produire des images haute définition avec moins de 0,5 % de distorsion linéaire d'image. Le wafer stepper optimise également les caractéristiques d'exposition de l'outil d'exposition pour une plus grande précision lors des processus de balisage. L'unité est alimentée par de puissants processeurs haute vitesse et une caméra vidéo numérique pour améliorer la précision et la flexibilité. Les capacités de traitement rapide permettent à l'étape de produire des motifs complexes à partir de photomasques plus petits. L'outil d'exposition comporte plusieurs modalités d'exposition, dont le mode de balayage télécentrique pour une focalisation maximale et un mode d'exposition optimisé à angle étroit pour une imagerie très précise sur différents substrats. Le Titan 4700 ULTRATECH comprend également une machine automatique d'alignement de précision qui augmente l'efficacité des processus de lithographie en plusieurs étapes avec une plus grande précision. Avec un outil d'alignement entièrement automatisé, la machine peut ajuster avec précision la position du masque avec une précision de sous-micron. Cette capacité réduit le temps de cycle global et permet une production plus efficace de modèles à haut rendement. L'actif dispose également de caractéristiques de métrologie avancées, y compris la métrologie d'alignement et la métrologie de modèle, qui permettent des performances à haute résolution. La métrologie d'alignement permet des mesures en cours de processus et des évaluations diagnostiques afin de garantir l'exactitude et la qualité des analyses. La métrologie des motifs fournit des mesures supplémentaires telles que l'analyse du profil des motifs, la cartographie des caractéristiques transversales et la comparabilité des motifs pour un meilleur contrôle de la qualité. Titan 4700 est un pas de plaquette de pointe conçu pour optimiser les processus de lithographie et augmenter le débit. Son modèle d'imagerie avancé et ses capacités d'imagerie complexes fournissent une imagerie haute résolution et une modélisation précise sur un large éventail de substrats. Les fonctions automatiques d'alignement de précision et de métrologie permettent d'obtenir des résultats de meilleure qualité et d'améliorer les performances en temps de cycle. Avec sa polyvalence, l'ULTRATECH Titan 4700 est un choix idéal pour les procédés de lithographie en plusieurs étapes et les applications de balisage à haut rendement.