Occasion ULTRATECH Unity AP300 #9128099 à vendre en France

ID: 9128099
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2009
Stepper, 12" Resolution: 2 um Line / Space Field size: 34 x 26 mm Wave length: Ghi-line Illumination: Strength of exposure: 2,063 mW / cm² (Ghi-line) Exposure accuracy: Shutter accuracy: 0.28% (250 mJ) 0.68% (2500 mJ) Illuminator condition: 3.22% SSF Focus Lens resolution: 2.0 um L/S DOF Lens: ±7.5 um Image plane inclination: Wafer chuck flatness: X: -0.0179 um/mm Y: 0.0804 um/mm Alignment accuracy: Overlay accuracy: X: 0.909 um Y: 3.179 um (3-Sigma) Wafer place position accuracy: X: 98.343 um Y: 83.691 um (3-Sigma) Reticle position test: X: 0.480 um Y: 0.624 um (Sigma) TCL Test Benchmark: 115.1 + 22 um (L: 0 um, B: -7.0 um, R: 0.8 um) Data back up: Critical backup 2009 vintage.
ULTRATECH Unity AP300 wafer stepper est un équipement de lithographie de précision de pointe utilisé dans la production de wafers semi-conducteurs. Le stepper dispose d'une optique avancée et d'une capacité multi-doses, capable d'imager jusqu'à trois plaquettes simultanément. Le système est conçu pour fournir une imagerie de haute qualité des surfaces de plaquettes exposées et non exposées. Le AP300 est équipé d'une unité Opti-Scan Robotics, qui assure un alignement et un déplacement précis et reproductible des plaquettes à l'intérieur de la machine. La machine est également capable de commuter entre deux caméras, permettant à l'utilisateur d'effectuer l'imagerie de surface supérieure et inférieure. Le pas de plaquette est alimenté par un étage multi-axes de haute précision, assurant la suspension d'air et l'isolement de la plaquette de l'environnement, ainsi que le contrôle optimal du mouvement. L'outil dispose également d'un moteur haut de gamme, avec un contrôle de vitesse précis et répétable, assurant un mouvement et une position précis des plaquettes pendant la lithographie. L'étape AP300 wafer utilise un actif propriétaire de contrôle de dose et d'exposition, qui fournit une stabilité et une précision inégalées dans la livraison de dose et la vitesse d'écriture du modèle. Le modèle fournit également une correction optique avancée à l'aide de masques d'uniformité calibrés, permettant une meilleure qualité d'image et une lithographie plus précise. Le AP300 utilise également un équipement avancé de processus multicouche (MLP) pour surveiller les progrès de la plaquette pendant l'étape et le processus de répétition. Cela permet de minimiser les désalignements et de s'assurer que la quantité correcte de doses est appliquée à chaque meurtrière à travers la plaquette. Enfin, le AP300 est construit avec des caractéristiques de sécurité robustes, conçu pour assurer un fonctionnement sûr en tout temps. Le stepper est livré avec une enceinte d'armoire, assurant que le système est protégé des vibrations externes, de la poussière, et EMF. Les fonctions de sécurité comprennent également un bouton d'arrêt d'urgence pour protéger l'utilisateur contre les dommages.
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