Occasion VEECO ULTRATECH AP300W #293829196 à vendre en France

ULTRATECH AP300W Wafer Stepper est un outil de lithographie avancée conçu pour des processus de photolithographie ultra-fine rentables sur un large éventail d'applications industrielles, universitaires et de consommateurs. Il offre un chargement et un déchargement automatisés des plaquettes avec un débit élevé (7 plaquettes en 30 minutes) et un alignement et un enregistrement précis des couches pour une production rapide. AP300W dispose d'une interface utilisateur intuitive, d'options simples de configuration à l'écran et d'un champ de vision de 600 mm pour répondre à des spécifications de conception complexes. ULTRATECH AP300W a la capacité de dessiner des motifs avec des tailles de fonctionnalités jusqu'à 0,2 µm avec une précision inégalée, permettant d'obtenir des motifs d'appareil haute résolution, uniformes et reproductibles. Il a également la capacité d'imprimer plusieurs couches simultanément, fournissant une précision avancée et des rendements de débit améliorés pour une production de volume élevé. La flexibilité du pas de tranche permet de tracer tout le spectre des géométries de ligne, de vecteur et de raster, permettant aux utilisateurs de contrôler avec précision la séquence et l'enregistrement de plusieurs couches de traitement. Il a également la capacité de fournir aux utilisateurs une haute précision, contrôle d'enregistrement multicouche en utilisant des techniques de manulith. Le système de mouvement de tête de balayage AP300W assure une résolution fine et un alignement précis des éléments structurés à l'intérieur de chaque couche. Il garantit également que les caractéristiques sont définies et enregistrées avec une précision de +/- 0,8 µm. ULTRATECH AP300W Wafer Stepper est un système de lithographie industrielle conçu avec les exigences de production les plus élevées à l'esprit. Il dispose d'équipements semi-automatisés, avec des capacités d'intégration complètes, qui aident les utilisateurs à obtenir des résultats rapides et fiables avec chaque processus. C'est également une solution financièrement viable qui est idéale pour les procédés de photolithographie ultra-fine dans un large éventail d'applications.