Occasion ASML Overlay measurement system #293672253 à vendre en France

L'équipement de mesure ASML Overlay est un système d'essai et de métrologie utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Il combine les capacités de métrologie mécanique, optique et optique/mécanique pour mesurer la position et/ou la superposition des caractéristiques critiques sur les plaquettes semi-conductrices. L'unité est capable de prendre des mesures extrêmement précises de l'alignement entre différentes caractéristiques sur une plaquette, ou entre différentes plaquettes. La machine utilise un étage de balayage de haute précision avec des codeurs haute résolution pour positionner avec précision la plaquette pour permettre la mesure de motifs sous une grande variété d'angles. La tête de mesure, utilisée pour l'acquisition des données des plaquettes, est constituée d'un laser, d'un détecteur quadrant et d'un ensemble de roues filtrantes. Un gestionnaire de plaquettes motorisé haute résolution aide à l'alignement et à l'essai de plusieurs plaquettes. L'outil de mesure de superposition est entièrement automatisé et peut gérer les volumes de production. Utilisant des outils de manutention robotique spécialisés, l'actif est capable de manipuler plusieurs plaquettes en un seul cycle, et peut mesurer des milliers de points par plaquette. Le modèle de mesure est également conçu pour être très fiable, avec un temps d'arrêt minimal grâce à une maintenance périodique et des solutions logicielles dédiées. Les acquisitions de données de l'équipement de mesure ASML Overlay sont effectuées au moyen du rétrodiffuseur hors axe Moiré ou OASM. Cette technique est utilisée pour mesurer la superposition et l'alignement entre deux couches de motifs. L'OASM utilise un rayonnement laser à travers un séparateur de faisceau pour diviser la lumière en deux chemins. Un faisceau est dévié à travers un réseau tournant pour mesurer l'alignement des deux couches. Le deuxième faisceau est balayé à travers le motif pour fournir des données topographiques. Ces données sont ensuite utilisées pour calculer les résultats. Les données de la plaquette mesurée sont présentées sous plusieurs formats, en utilisant différents types de visualisations. Les données permettent à l'utilisateur de comparer rapidement des mesures telles que la superposition, le désalignement et la dimension critique. Il permet également d'analyser les résultats de la Conférence et de formuler des recommandations utiles sur les mesures à prendre pour améliorer le rendement. Le système de mesure de superposition est un excellent choix pour la production de semi-conducteurs, apportant flexibilité, précision et fiabilité aux essais de plaquettes et à la métrologie. Il offre un large éventail de capacités de mesure, ainsi que des outils d'analyse de données avancés, le tout dans un ensemble rentable.