Occasion CANDELA OSA 5100 #293809915 à vendre en France

CANDELA OSA 5100 Wafer Testing and Metrology Equipment est une solution intégrée conçue pour la mesure et l'analyse des dispositifs semi-conducteurs et de leurs structures connexes. Ce système est conçu pour permettre à l'ingénierie des procédés semi-conducteurs de répondre aux exigences actuelles de l'industrie en matière de vitesse, de précision et de répétabilité tout en atteignant les niveaux de précision et de précision les plus élevés. Le dispositif utilise un microscope acoustique à balayage (SAM) pour générer des images acoustiques à haute résolution d'échantillons à une seule fréquence de 10 MHz. L'image acoustique est ensuite traitée au moyen d'un logiciel propriétaire pour identifier les petits défauts et autres ensembles de données liés à la structure. L'unité est également capable d'acquérir des caractéristiques électriques très fines de l'échantillon, en intégrant un microscope à capacité de balayage (SCM) et un microscope à tension de balayage (SVM). Le logiciel d'interférométrie Anilox™ permet de mesurer l'indice de réfraction (IOR) et d'autres formes de propagation des ondes pour mesurer l'épaisseur du film. Cette combinaison de logiciels et d'outils matériels permet une détermination rapide et précise de la topologie de surface et des caractéristiques électriques à un niveau sous-micron. En outre, la machine est également capable de mesurer la contrainte résiduelle dans les couches minces, un paramètre clé dans la configuration moderne de l'appareil. OSA 5100 a plusieurs caractéristiques qui le rendent très adapté pour une utilisation dans un environnement de test de plaquettes et de métrologie. Tout d'abord, il dispose d'un laser à injection ponctuelle empilée (LPI) hautement reproductible équipé d'un détecteur de réseau de pixels qui permet une spectroscopie de particules multi-canaux avec une résolution en profondeur jusqu'à 100 pm. Cette combinaison de LPI et de spectroscopie de particules fournit des mesures structurelles rapides et précises à l'échelle nanométrique. De plus, l'outil dispose également d'un microscope à photocourant multi-spectral (MPM) pour mesurer les courants photoinduits à partir de circuits mono-dispositifs. De plus, l'actif intègre également une suite de métrologie optique robuste qui permet de mesurer les dimensions critiques (CD) et les zones de surgravure et de sous-gravure. Le modèle permet également l'acquisition de données à partir de plusieurs emplacements sur une plaquette simultanément, permettant un plus grand débit. Enfin, CANDELA OSA 5100 est également capable de combiner les capacités ci-dessus avec un outil de contrôle de séquence entièrement automatisé pour faciliter les essais à grande échelle et les projets de métrologie. En résumé, OSA 5100 Wafer Testing and Metrology Equipment est un système intégré capable de fournir des mesures et des analyses avec une vitesse, une précision et une répétabilité sans précédent. Cette unité est une solution idéale pour quiconque cherche à repousser les limites de l'ingénierie des procédés semi-conducteurs et à obtenir une caractérisation optimale des dispositifs.