Occasion CDE RESMAP 178 #293639677 à vendre en France

ID: 293639677
Resistivity mapping system Probe head Spare box Calibration resistor pack Operating system: Windows XP Does not include: LCD Monitor Keyboard / Mouse.
Le CDE RESMAP 178 est un équipement de pointe d'essai et de métrologie de plaquettes doté d'une large gamme de caractéristiques, qui le rendent idéal pour les applications dans la métrologie de plaquettes semi-conductrices et la surveillance des processus. Ses puissantes capacités d'imagerie permettent de mesurer avec précision les caractéristiques et les paramètres du niveau de la plaquette avec des résultats supérieurs. Le système comprend une colonne de 78 canaux de faisceau d'électrons (EB) à résolution sub-nanométrique. Ceci est couplé à une caméra CCD haute résolution, haute sensibilité, capable de détecter des changements même subtils dans la surface d'une plaquette semi-conductrice. Ceci en fait un outil efficace pour mesurer divers paramètres tels que la profondeur de gravure, les formes géométriques, les caractéristiques de profil, les caractéristiques de balisage et de dopage, etc. L'unité dispose également d'un ensemble complet d'outils de métrologie tels que la cartographie du contour, la détection des bords, l'analyse de l'astérisme, l'imagerie SEM et la paramétrisation. Ces outils sont conçus pour détecter et mesurer même les plus petites caractéristiques de surface et aider les opérateurs à identifier les tendances des processus. En plus de ses capacités d'imagerie avancées, la machine offre également une gamme de commandes et de fonctions conviviales. Il s'agit notamment du contrôle manuel et automatisé des paramètres de mesure, de la prise en charge d'un large éventail de systèmes d'alignement, de systèmes de coordonnées multiples, de paramètres d'affichage personnalisables et de l'enregistrement automatisé des données. Dans l'ensemble, CDE RESMAP178 wafer testing and metrology outil fournit une plate-forme puissante pour la surveillance des processus de wafer et l'analyse des défauts. Ses configurations en profondeur de mise au point, la comparaison semi-automatique des images et d'autres fonctionnalités en font une solution idéale pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à améliorer leurs capacités de métrologie au niveau des plaquettes.
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