Occasion EPIPLUS / ETAMAX Plato #9260679 à vendre en France

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ID: 9260679
Taille de la plaquette: 2"-8"
Style Vintage: 2010
PL Mapping system, 2"-8" X-Y Stage Cassette loading Flat zone finder (2) Cassettes for 2"-8" wafer Spectrometer: Wavelength range: 420 nm Hardware pixel resolution: 0.13 nm/pixel Resolution: 0.5 mm for 2" 1 mm of 4" 2 mm for 8" Thickness: Measurement method: Optical interference by reflection Accuracy / Reproducibility: 3% for GaN film Photo Luminescence (PL): Measurement items: WP (Peak) WD (Dominant) Integrated and peak intensity FWHM Accuracy: 5% (Peak intensity / Integrated intensity) <1 nm (Wp / FWHM) Intensity measurement: High sensitive photo detector (3) Pumping lasers: 266, 405, 532 Bowing measurement: Reproducibility: ±5 um Measuring range: 20 - 4000 um Cap (2" Profile): <10 sec Bowing mapping Input voltage: 220 V Current: 30 A Compressed air: 0.2~0.4 MPa 2010 vintage.
EPIPLUS/ETAMAX Plato est un équipement d'essai et de métrologie de plaquettes développé par KLA Tencor Corporation. Il est conçu pour inspecter et mesurer les dispositifs semi-conducteurs trouvés sur les plaquettes semi-conductrices, afin d'assurer la qualité et la fiabilité de ces composants. Ce système utilise une gamme de techniques avancées d'inspection et de métrologie, pour mesurer avec précision, profiler et inspecter la plaquette ainsi qu'une variété de paramètres connexes. L'unité ETAMAX Plato comprend plusieurs éléments de base : une série d'étages de plaquettes automatisés, une optique avancée et des outils embarqués pour analyser la plaquette. Les étages automatisés de plaquette fonctionnent pour positionner précisément la plaquette sous l'optique, qui capture alors les images critiques de la plaquette pour analyse. L'optique avancée, responsable de l'imagerie et du balayage des plaquettes, peut être configurée à une variété de capacités optiques pour répondre aux exigences de métrologie et aux objectifs d'inspection. Les outils embarqués sur la machine EPIPLUS Plato comprennent un logiciel de pointe qui automatise le processus d'identification des défauts. Ce logiciel peut identifier différents types de défauts de plaquettes en fonction de motifs d'image, tels que nodules, vides, microfissures, et d'autres anomalies de surface. De plus, les outils embarqués comprennent également des scanners de métrologie et des vidéoscopes qui permettent aux utilisateurs de mesurer divers paramètres d'une plaquette, tels que des mesures de CD (dimension critique), des rendements basés sur CD, des mesures de superposition, et plus encore. L'outil Plato est équipé d'un design modulaire, permettant d'ajouter ou de retirer facilement une variété d'outils et de composants pour répondre aux besoins des clients. En conséquence, l'actif peut être hautement personnalisé pour les besoins d'un processus de développement de wafer donné. La conception modulaire offre également une grande flexibilité en termes de configuration du modèle et d'évolutivité. L'équipement EPIPLUS/ETAMAX Plato est réputé pour ses performances avancées et sa précision ultra-élevée. Il a été prouvé qu'il fournit des résultats de mesure fiables et répétables, ce qui contribue à réduire le risque d'erreurs et à améliorer les rendements des processus. Dans l'ensemble, ETAMAX Plato est un système avancé de test et de métrologie des plaquettes développé par KLA Tencor Corporation. Son immense flexibilité de conception, ses composants avancés et ses résultats fiables en font un choix populaire pour les processus d'inspection des plaquettes et de métrologie.
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