Occasion FILMETRICS F10-ARc #293645023 à vendre en France

Filmtrics FILMETRICS F10 est une plate-forme d'essai et de métrologie de wafer de pointe conçue pour le contrôle avancé des procédés de semi-conducteurs dans l'industrie des semi-conducteurs. Il offre une combinaison de diverses capacités de métrologie telles que la cartographie, l'inspection optique, l'ellipsométrie spectrosopique et la scatterométrie, ainsi que des capacités uniques de métrologie des particules, permettant un contrôle avancé des processus. C'est l'un des systèmes de test et de métrologie de plaquettes les plus avancés disponibles sur le marché et offre une large gamme de capacités. Le Filmtrics FILMETRICS F 10 est basé sur une combinaison de technologies avancées d'optique, de vision et de spectroscopie. Il dispose d'une plate-forme de vision unique appelée « Vision64 Vision Equipment » et comprend des capacités d'imagerie sophistiquées combinées à des algorithmes avancés de traitement d'image pour permettre une analyse d'image détaillée pour le contrôle des processus au niveau de la plaquette. Le système est également équipé d'un logiciel de contrôle « LCM Metrology » qui dispose d'un logiciel de contrôle convivial et intuitif pour contrôler l'ensemble de l'unité. Le Filmtrics F10 dispose d'une capacité complète d'inspection optique automatisée, périodique et statique. La machine dispose de deux grandes fenêtres de visualisation qui permettent d'inspecter jusqu'à quatre plaquettes entières avec plusieurs étapes et couches de processus en même temps. L'outil intègre également des optiques de balayage micrométriques pour des mesures de surface détaillées pour le contrôle des processus au niveau des plaquettes. F 10 est capable de caractériser un large éventail de paramètres de processus et de structures au niveau de la plaquette avec sa gamme unique de capacités de métrologie. Il peut mesurer l'épaisseur du film et la variation du CD jusqu'à 6,5 microns en résolution, ainsi que des mesures d'indice de réfraction et de coefficient d'extinction pour mieux évaluer les variations des propriétés du matériau. Il a également la capacité de mesurer l'épaisseur optique répétable et reproductible d'une variété de matériaux (y compris les couches épi) avec les améliorations élypsométriques optionnelles. L'actif intègre également les dernières technologies pour l'analyse de la contamination des particules, l'analyse de la taille des particules, l'analyse morphologique et l'analyse des défauts. Combiné aux capacités de métrologie susmentionnées, FILMETRICS F10 fournit des capacités complètes de processus et de contrôle de la qualité au niveau des plaquettes. Le Filmtrics FILMETRICS F 10 offre également plusieurs modes d'échantillonnage, où les utilisateurs peuvent sélectionner jusqu'à quatre plaquettes à la fois pour mesurer les paramètres de processus et de structure, donnant aux utilisateurs la flexibilité d'optimiser et d'améliorer leur processus. Le modèle intègre également un équipement de reconnaissance de l'emplacement de l'échantillon qui utilise la vision de la machine pour obtenir des emplacements d'échantillon précis et cohérents. En conclusion, le Filmtrics F10 est un système d'essai et de métrologie de plaquettes puissant et avancé qui offre des capacités supérieures de contrôle des processus et d'assurance de la qualité. Sa combinaison unique de métrologie et de capacités de métrologie des particules le rend idéal pour le contrôle des processus semi-conducteurs.