Occasion FILMETRICS F10-RT #293654461 à vendre en France

FILMETRICS F10-RT est un équipement d'essai et de métrologie de plaquettes, capable de mesurer une variété de caractéristiques sur une plaquette semi-conductrice avec une précision et une précision élevées. C'est un système optique sans contact qui utilise une combinaison de spectrophotométrie et d'ellipsométrie pour mesurer à la fois l'épaisseur de la plaquette et la distance entre les couches. L'unité est composée d'une plate-forme optique haute définition, d'une unité de contrôle et d'une suite logicielle basée sur PC. La plate-forme optique de F10-RT offre 10x -100x grossissement avec une vue couleur très détaillée et équilibrée des surfaces de plaquettes. La plate-forme utilise également des technologies brevetées telles que l'imagerie spectrale, le contrôle mécanique du mouvement et l'optique FILMETRICS F10-RT exclusive, afin d'assurer des mesures cohérentes et fiables. L'unité de contrôle de F10-RT fournit une interface conviviale, l'acquisition et le stockage automatisés de données, et des commandes personnalisées. Il est équipé d'écrans tactiles et d'un sélecteur rotatif facile à utiliser pour permettre des sélections rapides et précises. La machine est décrite comme ayant un temps de cycle exceptionnellement court du fait de sa détection simultanée des deux couches et de l'épaisseur. La suite logicielle basée sur PC de FILMETRICS F10-RT est le module le plus avancé de l'outil. Il prend en charge diverses applications, telles que l'analyse de films, le balayage transversal, la topographie et l'imagerie. Ce logiciel prend en charge l'unité de contrôle et permet une caractérisation précise des plaquettes. De plus, le logiciel est équipé d'une option FTIR (Fourier Transform Infrared) permettant de mesurer rapidement et précisément les propriétés physiques de la plaquette. F10-RT actif est particulièrement adapté pour une utilisation dans la production de semi-conducteurs et le contrôle de la qualité. Ses capacités sensibles de détection sans contact permettent au modèle de mesurer avec précision un large éventail de propriétés sur des plaquettes monocouches et multicouches. De plus, ses performances et ses capacités d'acquisition de données assurent que les rendements de production restent stables et que les wafers répondent à des exigences de fabrication exigeantes.