Occasion FILMETRICS F20-2 #293715315 à vendre en France

ID: 293715315
Thickness measurement system P/N: 205-0165 Does not include optical fiber Operating system: Windows XP.
FILMETRICS F20-2 est un équipement d'essai et de métrologie de plaquettes très avancé conçu pour mesurer et caractériser avec précision les couches minces et les revêtements sur plaquettes semi-conductrices. Ce système est équipé de technologies de pointe et d'algorithmes logiciels pour fournir des données précises et fiables pour le contrôle des processus et l'assurance de la qualité dans la fabrication de semi-conducteurs. Au cœur d'unité F20-2 est une technique ellipsometry spectroscopique sophistiquée, qui tient compte de la mesure non-destructive de propriétés de film minces telles que l'épaisseur, l'index réfringent et le coefficient d'extinction. Cette technique repose sur le principe de l'analyse de l'évolution de la polarisation de la lumière au fur et à mesure qu'elle interagit avec la surface des couches minces, ce qui fournit des indications précieuses sur les propriétés optiques et matérielles des couches. La machine FILMETRICS F20-2 dispose d'un étage motorisé de haute précision qui permet un positionnement automatisé des plaquettes, assurant des mesures répétables et cohérentes sur toute la surface de la plaquette. L'outil est capable de manipuler des plaquettes de différentes tailles et matériaux, ce qui le rend adapté à une large gamme d'applications de semi-conducteurs. En plus des mesures d'ellipsométrie, F20-2 asset est équipé d'une gamme d'outils auxiliaires et de capteurs pour la caractérisation complète des plaquettes. Il s'agit notamment d'un profilomètre pour les mesures de rugosité de surface, d'un réflectomètre spectroscopique pour l'analyse de réflectance optique et d'un modèle intégré de régulation de la température pour des mesures thermiques précises. L'équipement FILMETRICS F20-2 est contrôlé par un logiciel intuitif qui permet aux utilisateurs de configurer facilement les routines de mesure, de visualiser et d'analyser les données et de générer des rapports détaillés. L'interface logicielle permet un suivi en temps réel des paramètres de mesure, un traitement rapide des données et une intégration transparente avec des outils d'analyse de données externes pour une interprétation avancée des données. L'un des principaux avantages du système F20-2 est sa capacité à effectuer une métrologie en ligne, ce qui le rend idéal pour l'intégration dans les installations de fabrication de semi-conducteurs pour la surveillance et le contrôle des processus en temps réel. En fournissant une rétroaction instantanée sur les propriétés des couches minces, l'unité permet d'optimiser les paramètres du processus, de minimiser les défauts et d'améliorer le rendement global de la production de semi-conducteurs. Dans l'ensemble, la machine d'essai et de métrologie FILMETRICS F20-2 établit une nouvelle norme pour la caractérisation des couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs. Ses capacités avancées, son interface conviviale et sa conception robuste en font un outil précieux pour les chercheurs et les ingénieurs travaillant dans l'industrie des semi-conducteurs qui exigent des données de mesure précises et fiables pour l'optimisation des processus et l'assurance de la qualité.
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