Occasion FILMETRICS F20-UV #293592882 à vendre en France

L'équipement FILMETRICS F20-UV Wafer Testing and Metrology dispose d'une combinaison unique de capacités d'imagerie optique, de métrologie et de caractérisation au niveau des wafers. Ce système est conçu pour des essais automatisés à haut débit et la métrologie de couches minces sur plaquettes semi-conductrices pour la caractérisation de dispositifs ou le développement de processus. Il est capable de mesurer des variations d'épaisseur de sous-microns, microns et nanomètres de couches minces sur des plaquettes semi-conductrices dans une variété de formats, ainsi qu'avec des tailles de motifs arbitraires, des formes et des masques opaques. FILMETRICS F 20 UV comprend une unité laser accordable en longueur d'onde configurée avec un réflectomètre spectral non interférométrique et une machine d'imagerie, qui permet de mesurer rapidement l'épaisseur des structures de films opaques. Cet outil de réflectomètre et d'imagerie fonctionne sur le spectre visible et ultraviolet, offrant une solution flexible adaptée à diverses procédures. En outre, l'actif utilise une technologie d'imagerie haute puissance et haute résolution pour détecter les basses fréquences d'échantillonnage et fournir des informations sur les défauts. Le modèle comprend également un logiciel informatique, qui est une interface facile à utiliser idéale pour analyser les données des plaquettes rapidement et efficacement. Ce logiciel est conçu pour offrir une représentation graphique intuitive des données, permettant aux utilisateurs de surveiller, comparer et mettre en évidence les caractéristiques d'intérêt. Le logiciel dispose également d'une capacité de graphie 2D et 3D, fournissant une analyse et une visualisation avancées des données. En termes de performances, F20-UV offre une haute résolution, des vitesses de mesure rapides et une répétabilité de l'épaisseur et de la rugosité du film sur une variété de types de plaquettes. Sa précision et sa facilité d'utilisation en font un choix idéal pour la caractérisation des appareils et le développement des processus. L'équipement est également adapté à un fonctionnement rigoureux de l'environnement, ce qui le rend adapté à un large éventail d'applications. Dans l'ensemble, le F 20 UV Wafer Testing and Metrology System est une unité avancée et fiable conçue pour faciliter les essais et la métrologie automatisés à haut débit des couches minces sur les plaquettes semi-conductrices. Avec sa combinaison de machine laser accordable en longueur d'onde, de technologie d'imagerie et de logiciel convivial, cet outil fournit une solution complète pour faciliter des mesures précises et répétables de l'épaisseur et de la rugosité du film sur les plaquettes.