Occasion FILMETRICS F50 #293698960 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 293698960
Film thickness measurement system
Thickness measurement range: 20 nm-70 µm
Wavelength range: 380-1050 nm
Accuracy: > 0.2% or 20 Å
Minimum thickness measure N and K: 100 nm
Light Source Lamp: Halogen
PC.
FILMETRICS F50 est un équipement d'essai et de métrologie des plaquettes de pointe conçu pour fournir des mesures précises et fiables des propriétés des couches minces sur les plaquettes semi-conductrices. Ce système de pointe combine une technologie innovante avec des fonctionnalités automatisées pour rationaliser le processus de test et fournir des résultats précis rapidement et efficacement. Au cœur de l'unité FILMETRICS F 50 se trouvent ses capacités d'imagerie haute résolution, qui permettent une inspection détaillée des couches minces avec une clarté exceptionnelle. La machine utilise des algorithmes d'optique et d'imagerie avancés pour capturer des images de haute qualité de la surface de la plaquette, permettant aux utilisateurs d'analyser les propriétés des couches minces telles que l'épaisseur, la composition, la rugosité et les défauts au niveau microscopique. Une des caractéristiques clés de F50 est ses capacités de mesure sans contact, qui éliminent le risque d'endommager les couches minces délicates lors des essais. En utilisant des techniques optiques non destructives, l'outil peut mesurer avec précision les propriétés des couches minces sans contact physique avec la surface de la plaquette, garantissant ainsi l'intégrité de l'échantillon tout au long du processus d'essai. F 50 asset est équipé d'une gamme polyvalente de modes de mesure, permettant aux utilisateurs de personnaliser leurs paramètres d'essai en fonction des exigences spécifiques de leurs échantillons de couches minces. Qu'il s'agisse de mesurer des couches simples ou multiples, le modèle offre une souplesse dans le choix de la technique de mesure appropriée, y compris la réflectométrie spectroscopique, l'ellipsométrie et la scatterométrie, pour obtenir des résultats optimaux pour différents types de matériaux à couches minces. En plus de ses capacités d'imagerie et de mesure, l'équipement FILMETRICS F50 dispose également d'outils d'analyse de données avancés qui permettent aux utilisateurs de traiter et d'interpréter les données de mesure avec précision. L'interface logicielle du système fournit des contrôles intuitifs pour la visualisation, l'analyse et le reporting des données, ce qui permet aux utilisateurs d'extraire des informations précieuses de leurs mesures de plaquettes et de prendre des décisions éclairées sur l'optimisation des processus en couches minces et le contrôle de la qualité. L'unité FILMETRICS F 50 est conçue pour une intégration homogène dans les environnements de fabrication de semi-conducteurs, avec une empreinte compacte et une construction robuste qui garantit des performances fiables dans les réglages de production à haut débit. La machine est conçue pour la durabilité et la stabilité, ce qui la rend apte à fonctionner en continu en salle blanche tout en maintenant la précision et la répétabilité dans les mesures de couches minces. Dans l'ensemble, F50 représente une solution de pointe pour l'essai de plaquettes et la métrologie, offrant des capacités avancées pour mesurer les propriétés des couches minces avec précision et efficacité. En tirant parti de sa technologie de pointe et de ses fonctionnalités automatisées, l'outil permet aux fabricants de semi-conducteurs d'obtenir un contrôle de qualité supérieur et une optimisation des processus dans la production de couches minces, contribuant ainsi à améliorer les performances et le rendement des dispositifs dans les processus de fabrication de semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques