Occasion IMS LVIS-III #9134183 à vendre en France

L'équipement d'essai et de métrologie des plaquettes IMS LVIS-III est conçu pour fournir des mesures très précises et répétables des structures minces des plaquettes et des dispositifs ainsi que des problèmes de rendement et de fiabilité. C'est un outil bien établi et fiable pour diverses applications dans l'industrie des semi-conducteurs, telles que l'analyse des défaillances, la surveillance des processus et la métrologie. LVIS-III se compose de plusieurs caractéristiques uniques telles qu'un système d'imagerie plein champ à haute résolution, un environnement fortement stabilisé en température et un fonctionnement à faible bruit. L'unité d'imagerie plein champ obtient des résolutions allant jusqu'à 0,5 um afin de mesurer avec précision les caractéristiques de la plaquette. En outre, la machine offre une fonction d'imagerie spéciale pour aligner plusieurs images dans une image plus grande pour fournir un champ de vision plus grand. L'environnement à température contrôlée assure les conditions les plus stables pour des mesures précises tandis que l'amplificateur à faible bruit améliore encore la précision. IMS LVIS-III dispose de capacités de métrologie complètes pour détecter et analyser une variété de caractéristiques et de défauts. Il est capable d'inspecter et d'isoler même de très petites caractéristiques sur la plaquette, comme les particules soulevées, les rayures, la texture de surface ou les défauts de sous-surface de sous-microns. Il est également équipé d'outils avancés d'analyse des défauts, tels que la section transversale de l'analyse des défaillances, le balayage de la fluorescence des rayons X et la microscopie ionique à balayage, pour analyser de près divers défauts. L'outil LVIS-III est conçu pour une collecte de données rapide et fiable. Il élimine le besoin de manutention physique des plaquettes qui peut ajouter des économies de temps et de coûts importantes. L'actif permet également de mesurer simultanément jusqu'à 25 emplacements pour accélérer la mesure des plaquettes et d'extraire des mesures pour effectuer une analyse statistique fournissant ainsi à l'utilisateur un ensemble complet d'analyse. Dans l'ensemble, IMS LVIS-III wafer test et modèle de métrologie est un outil puissant dans l'industrie des semi-conducteurs. Ses capacités d'imagerie haute résolution, son environnement stable en température et ses capacités de métrologie avancées en font un choix idéal pour les essais de plaquettes, l'analyse de fiabilité et la surveillance des processus.