Occasion IMS / NANOTECH LVIS-V #9314422 à vendre en France

IMS / NANOTECH LVIS-V
ID: 9314422
Visual inspection system.
L'équipement IMS/NANOTECH LVIS-V Wafer Testing and Metrology est une plate-forme complète de test et de métrologie conçue pour la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs. Ce système intégré fournit un ensemble complet d'outils de métrologie, y compris une tête d'essai, une caméra de vision, une unité de vision, des techniques analytiques et des capacités d'acquisition de données contenues dans une plate-forme entièrement intégrée. La tête de test comprend un étage automatisé alimenté et un traiteur de filière. L'étage peut accueillir jusqu'à 200mm de plaquettes, ce qui le rend adapté pour le test de grands substrats. Le traitement de filière est utilisé pour enduire ou structurer le biseau de la filière, éliminer les grains ou les plaquettes de coloration, et pour des applications d'encapsulation partielle. La caméra visuelle est conçue pour capturer les informations structurelles et topographiques de la matrice à l'aide d'un microscope intégré. La machine de vision utilise le balayage laser et un outil de métrologie multi-zones pour produire un balayage 3D de la surface de la plaquette. Ces données sont utilisées pour mesurer l'épaisseur, la rugosité de surface, la surface et d'autres paramètres de la plaquette. L'actif comprend également une variété d'outils d'analyse, y compris des tests électriques, des tests optiques et la reconnaissance de motifs pour une caractérisation plus poussée du dispositif. Les capacités d'acquisition de données du modèle permettent le stockage, la récupération et l'analyse des résultats des tests. Toutes les données acquises peuvent être stockées sur un serveur distant sécurisé pour une évaluation et un reporting faciles. De plus, plusieurs des outils d'analyse disponibles sur l'équipement sont conçus pour l'évaluation automatisée, ce qui réduit le besoin d'intervention manuelle. Le système IMS LVIS-V Wafer Testing and Metrology est conçu pour les tests et la métrologie complets des wafers, fournissant aux chercheurs une plate-forme puissante et fiable pour les tâches de recherche et de production. Il permet une meilleure analyse des dispositifs et est particulièrement utile pour faciliter le développement et la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés.
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