Occasion KLA / TENCOR 4500 SURFSCAN #9411440 à vendre en France

ID: 9411440
Taille de la plaquette: 2"-6"
Wafer inspection system, 2"-6" High angle optics Non-patterned surface inspection system Surface polisher: 0.025 % Submicron sensitivity: Detects 0.2 micron particles Surface haze sensitivity: Detects 0.4 PPM Scattering cross-section: < 0.5 micron² per 50 passes High scattering surface: Metals Polysilicon CVD Films.
KLA 4500 est un équipement d'essai et de métrologie de wafer de pointe qui offre un contrôle de processus, une précision de mesure et une répétabilité supérieures. Le 4500 fournit une solution complète pour évaluer et mesurer les surfaces critiques sur les substrats technologiques de pointe d'aujourd'hui, tout en fournissant des capacités avancées de détection des défauts pour assurer un haut niveau de contrôle de la qualité sur les lignes de production de plaquettes. Le 4500 combine une série d'options de contrôle de processus, y compris la métrologie au microscope électronique à balayage (SEM), l'analyse d'images optiques, la révision et l'inspection avancée des défauts pour l'industrie des semi-conducteurs, avec un logiciel spécifique à l'échantillon qui permet l'inspection automatisée des plaquettes et la mesure d'un échantillon à l'autre. Le 4500 est conçu pour fournir une analyse rapide et précise des couches critiques sur un substrat, y compris celles sur des plaquettes à motifs avancés ; structures nano-échelle 3D complexes ; les couches de masque telles que la grille et la garniture ; et des piles spéciales de films. Il y parvient par l'imagerie haute résolution et des algorithmes spécialisés qui peuvent détecter et cartographier même le plus petit des défauts à ± 1 nm. Grâce à sa capacité d'analyse rapide et automatisée, le système permet aux fabricants de rapidement repérer et résoudre les problèmes, tout en fournissant une évaluation complète de leur produit. Le 4500 comprend une variété de fonctionnalités qui lui permettent de fournir des résultats rapides et précis. Ceux-ci comprennent : des capacités d'imagerie haute résolution qui permettent une visualisation détaillée de la topographie globale de surface ; les processeurs de signaux multiples qui analysent les images du microscope électronique à balayage (SEM) ; et les algorithmes de données complexes utilisés pour comparer les résultats d'imagerie à l'échantillon afin de mesurer les défauts ou de déterminer d'autres caractéristiques de la plaquette. De plus, le 4500 comprend une fonction brevetée MDMVA (algorithme de mesure et de visualisation des défauts en forme de mandrin) qui est utilisée pour détecter, classer et quantifier rapidement les défauts qui sont autrement difficiles à mesurer. Le 4500 offre également une multitude d'autres avantages pour les fabricants, y compris des rendements améliorés et des temps de cycle plus courts. Ceci est activé par l'unité automatisée de test de plaquettes et d'analyse de données de l'unité de métrologie qui peut être utilisé pour optimiser les processus et les paramètres. Grâce à cette machine, les fabricants sont en mesure d'analyser rapidement les tendances des processus, de maximiser le débit et de garantir des substrats de la plus haute qualité. Au total, TENCOR 4500 est une solution fiable et rentable pour les essais de plaquettes et la métrologie. Il offre une vitesse, une précision et une répétabilité supérieures pour mesurer les surfaces critiques sur les substrats technologiques de pointe d'aujourd'hui. En outre, l'outil offre une large gamme de fonctionnalités et de flexibilité qui permettent aux fabricants de tirer le meilleur parti de leurs opérations de test de plaquettes et de métrologie.
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