Occasion KLA / TENCOR 5100 XP #9248760 à vendre en France

KLA/TENCOR 5100 XP Wafer Testing and Metrology Equipment est un système polyvalent et puissant utilisé pour la mesure et le test des plaquettes semi-conductrices. L'unité est capable de mesurer un large éventail de paramètres afin de caractériser avec précision les plaquettes et d'évaluer les performances électriques et la fiabilité. La machine KLA 5100 XP se compose de quatre sous-systèmes : métrologie de l'image, mesure électrique, analyse des défauts et analyse. L'outil de métrologie de l'image est utilisé pour scanner les plaquettes et détecter les défauts sous forme de particules, rayures et autres anomalies de surface. Ce sous-actif est également capable d'effectuer la segmentation d'image, l'analyse et le classement des défauts. Le sous-modèle de mesure électrique est utilisé pour mesurer et analyser les paramètres électriques, y compris la résistance et la capacité à travers la plaquette. Ce sous-équipement fournit également des informations importantes telles que la largeur de grille, les concentrations de dopage et le courant de fuite du transistor. Le sous-système d'examen des défauts est conçu pour surveiller et examiner les résultats des vérifications électriques et optiques, ce qui permet d'identifier rapidement les éléments défaillants et les stratégies permettant de corriger tout problème. L'unité est également capable de trier et d'analyser les images défectueuses et les données de test dans le but de créer des résultats précis et reproductibles. Enfin, la sous-machine Analytics est utilisée pour générer des analyses avancées. L'outil peut identifier les défauts et fournir un aperçu des différents aspects du processus de fabrication des plaquettes. Il peut également fournir une analyse statistique des données d'essais de wafer et de métrologie. En conclusion, TENCOR 5100XP Wafer Testing and Metrology Asset est un modèle polyvalent et puissant qui fournit une gamme de fonctions pour le test de wafer et la métrologie. L'équipement est capable de mesurer une large gamme de paramètres électriques et optiques et fournit des analyses avancées pour le suivi et l'amélioration du processus.