Occasion KLA / TENCOR 5100 #9293246 à vendre en France

KLA/TENCOR 5100 est un équipement d'essai et de métrologie de plaquettes conçu pour améliorer la production de substrats de haute pureté pour l'industrie des semi-conducteurs. Ce système automatisé de pointe met en œuvre une série de processus et de systèmes conçus pour mesurer et évaluer avec précision la pureté d'un substrat. L'unité KLA 5100 utilise des systèmes de balayage assistés par laser pour assurer des mesures de haute précision des caractéristiques d'un substrat. En outre, il dispose d'une machine de test non destructive avancée qui utilise un faisceau d'électrons pour détecter des caractéristiques aussi petites que 10 nanomètres. L'outil dispose d'un étalonnage automatisé pour garantir la précision des mesures et la précision des résultats des essais. Une autre caractéristique de l'actif TENCOR 5100 est un modèle propriétaire de détection des défauts qui utilise la combinaison d'outils AOI et d'algorithmes avancés d'inspection des défauts pour détecter les anomalies de processus. L'équipement peut également suivre plusieurs substrats simultanément, assurant la précision des résultats obtenus. Pour optimiser les performances du système, 5100 met en œuvre une plate-forme DRA (Dynamically Reconfigurable Automation) qui permet des changements rapides et efficaces dans les recettes de test. Cette plateforme permet également aux utilisateurs d'ajuster les conditions de test afin de répondre aux besoins des processus en spécifiant différentes tailles et quantité de données de test. En outre, l'unité supporte une large gamme d'interfaces, y compris le contrôle sur place de la machine via Ethernet ou USB. De plus, l'outil KLA/TENCOR 5100 est également conçu pour l'imagerie haute résolution. L'actif fournit des images à haute résolution de substrats dans des modes standard de réflexion, de métrologie ou d'éclairage en champ sombre. Il prend également en charge la numérisation au format CCD ou dans une série de 5000 pixels. De plus, ses capacités de traitement d'image permettent de coudre plusieurs images et de les coudre sur une seule cible de vision. Pour améliorer la sensibilité à la poussière et à la contamination, le modèle comprend une identification à deux niveaux des particules, qui permet d'identifier et de catégoriser avec précision les particules. L'équipement dispose également d'un étage multi-axes qui fournit une voie d'inspection flexible, et est équipé d'un système automatisé de perte d'attitude et de contrôle des processus. Dans l'ensemble, l'unité KLA 5100 offre des capacités sophistiquées de métrologie et de détection de défauts, combinées à un étalonnage automatisé, optimisant ses performances pour la production de substrat de haute pureté. Ses systèmes avancés d'imagerie et d'identification des particules en font un choix puissant pour l'industrie des semi-conducteurs haut de gamme.